特許
J-GLOBAL ID:200903094929678273
引上げ室
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
好宮 幹夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-230894
公開番号(公開出願番号):特開2002-048370
出願日: 2000年07月31日
公開日(公表日): 2002年02月15日
要約:
【要約】【課題】 その機能上発熱する機器・設備による上昇気流の発生と下降流の乱れを排除するとともに、引上げ機付帯機器のメンテナンス作業性を損なうことなく、引上げ室のクリーン度と温度を最適な状態に維持することで単結晶の生産性と歩留りの向上を図り、高品質の単結晶棒を製造することができる空調システムを備えた引上げ室を提供する。【解決手段】 上層階の吹き出し口からクリーンエアを吹き出し、下層階のリターンダクトから吸引する循環型の空調システムを備えた少なくとも2層以上の多層階構造をなす引上げ室において、単結晶引上げ機に付帯し、下層階に設置される機器・設備であって、その常用温度が引上げ室の室温より10°C以上高い機器・設備をリターンダクト近傍に設置するか、あるいは前記機器・設備の上部に誘導ダクトを設置したことを特徴とする引上げ室。
請求項(抜粋):
上層階の吹き出し口からクリーンエアを吹き出し、下層階のリターンダクトから吸引する循環型の空調システムを備えた少なくとも2層以上の多層階構造をなす引上げ室において、単結晶引上げ機に付帯し、下層階に設置される機器・設備であって、その常用温度が引上げ室の室温より10°C以上高い機器・設備をリターンダクト近傍に設置するか、あるいは前記機器・設備の上部に誘導ダクトを設置したことを特徴とする引上げ室。
IPC (2件):
FI (2件):
F24F 7/06 C
, H01L 21/208 P
Fターム (8件):
3L058BE02
, 3L058BF01
, 3L058BF06
, 3L058BG01
, 3L058BG02
, 5F053AA12
, 5F053AA48
, 5F053RR04
引用特許:
審査官引用 (11件)
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クリーンルームシステム
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-335482
出願人:信越半導体株式会社, 高砂熱学工業株式会社, 鹿島建設株式会社
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クリーンルーム
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-311712
出願人:松下電子工業株式会社
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特開平2-161240
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