特許
J-GLOBAL ID：200903095101307898
モールドおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 誠一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-147707
公開番号（公開出願番号）：特開2007-313814
出願日： 2006年05月29日
公開日（公表日）： 2007年12月06日
要約：
【課題】複雑なパターン形状を容易にかつ少ない工程で作製でき、さらに凹凸の高さがそろったモールドとその製造方法を提供する。【解決手段】モールド1は、基板3の一つの面に凸状のレジストパターン5が形成された構造を有している。基板3表面に、スピンまたはスプレー法でレジストを塗布し、レジスト層7を形成する。次に、電子線によりパターンをレジスト層に描画し、現像を経て基板上にレジストパターン5を得る。レジストパターン5をプラズマ照射またはイオン注入法により硬化し、モールド1を得る。またこれらの工程を繰り返すことにより、モールド13を得る。複雑なパターン形状を容易にかつ少ない工程で作製でき、さらに凹凸の高さがそろったモールドとその製造方法を提供することができる。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
ナノインプリント用モールドであって、
基板と、
前記基板の上面にレジストにより形成された微小凹凸と、
を有し、
前記レジストがプラズマ照射、またはイオン注入による硬化が為されていることを特徴とするモールド。
IPC (3件)：
B29C 33/38
, H01L 21/027
, B81C 5/00
B29C33/38
, H01L21/30 502D
, B81C5/00
4F202AF00
, 4F202AG05
, 4F202AG26
, 4F202AH33
, 4F202AJ03
, 4F202AJ09
, 4F202CD02
, 4F202CD04
, 4F202CD22
, 4F202CD23
, 5F046AA28
, 5F046BA10
, 5F046CB27
