特許
J-GLOBAL ID：200903095129728414
偏光分離素子およびその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
横沢 志郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-097243
公開番号（公開出願番号）：特開平9-281334
出願日： 1996年04月19日
公開日（公表日）： 1997年10月31日
要約：
【要約】【課題】 ポリジアセチレンからなる偏光膜を備えた偏光分離素子において、偏光膜の保護および当該素子の光利用効率の向上を図ること。【解決手段】 偏光分離素子10では、光学的等方性基板であるガラス基板11の上に、配向膜14、ポリジアセチレンからなる偏光膜12、保護膜13がこの順に形成されている。偏光膜12は、ガラス基板11の露出面111を除く部分に形成されている。従って、偏光膜(ポリジアセチレン膜)12に対してひっかきや擦り等の機械的応力が作用しても傷がつく心配がない。また、保護膜13は露出面111において配向膜14に直接形成されているので、保護膜13の保持状態がよい。さらに、保護膜13に反射防止作用を持たせれば、偏光分離素子10の反射率が低下し、光利用効率が向上する。
請求項（抜粋）：
光学的等方性基板と、該光学的等方性基板の表面の一部が露出面として残った状態となるように該光学的等方性基板の表面に形成されたポリジアセチレン膜からなる偏光膜と、前記偏光膜の表面および前記露出面に積層された保護層とを有することを特徴とする偏光分離素子。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
審査官引用 (9件)
-
特開平3-252606
-
偏光分離素子
公報種別：公開公報
出願番号：特願平6-141147
出願人：株式会社三協精機製作所
-
ホログラム積層体
公報種別：公開公報
出願番号：特願平5-300404
出願人：セントラル硝子株式会社
全件表示
前のページに戻る
