特許
J-GLOBAL ID:200903095169834977
近接場光学顕微鏡
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長尾 達也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-283359
公開番号(公開出願番号):特開2000-097839
出願日: 1998年09月18日
公開日(公表日): 2000年04月07日
要約:
【要約】【課題】本発明は、光プローブ-試料間の距離を10nm以上に設定することができ、反射散乱光強度を増大させて検出信号S/N比及び観察像の画質の向上を図ることのできる近接場光学顕微鏡を提供することを目的としている。【解決手段】本発明は、先端に微小開口を有する光プローブを備え、該微小開口を試料表面に近接させて対向するように配置し、該試料表面と該光プローブとを該試料の面内方向に相対的に2次元走査し、光源から入射された光によって該光プローブの微小開口から該試料表面側にエバネッセント光を発生させ、該エバネッセント光の散乱光の強度を光検出手段によって検出して、該試料表面を観察する近接場光学顕微鏡であって、該試料表面と該光プローブとの間の距離を調整する距離調整手段と、該散乱光が該プローブ先端および該試料によって遮られることにより減少する散乱光強度を一定にするように該距離調整手段を制御するフィードバック制御手段と、を有することを特徴とするものである。
請求項(抜粋):
先端に微小開口を有する光プローブを備え、該微小開口を試料表面に近接させて対向するように配置し、該試料表面と該光プローブとを該試料の面内方向に相対的に2次元走査し、光源から入射された光によって該光プローブの微小開口から該試料表面側にエバネッセント光を発生させ、該エバネッセント光の散乱光の強度を光検出手段によって検出して、該試料表面を観察する近接場光学顕微鏡であって、該試料表面と該光プローブとの間の距離を調整する距離調整手段と、該散乱光が該プローブ先端および該試料によって遮られることにより減少する散乱光強度を一定にするように該距離調整手段を制御するフィードバック制御手段と、を有することを特徴とする近接場光学顕微鏡。
IPC (4件):
G01N 13/14
, G01B 11/30
, G11B 7/135
, G12B 1/00 601
FI (4件):
G01N 37/00 D
, G01B 11/30 Z
, G11B 7/135 Z
, G12B 1/00 601 C
引用特許: