特許
J-GLOBAL ID：200903095192080548

塗布膜形成方法および塗布装置

発明者：
太田 義治

太田 義治 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-099857
公開番号（公開出願番号）：特開2000-288450
出願日： 1999年04月07日
公開日（公表日）： 2000年10月17日
要約：
【要約】【課題】 基板上に形成する塗布膜の膜厚均一化を図ることができるとともに、使用する塗布液の量を極力少なくすることができる塗布膜形成方法および塗布装置を提供すること。【解決手段】 塗布液供給ノズル80を基板G上で移動しながら、塗布液供給ノズル80から基板Gの表面に塗布液を吐出して塗布膜を形成する。この際に、塗布液供給ノズル80が基板G上で移動している際、塗布液供給ノズル80からの塗布液の吐出、その吐出速度、塗布液供給ノズル80の移動、その移動速度、基板Gの回転、およびその回転速度の1または2以上を適宜制御する。
請求項（抜粋）：
処理容器内に収容された基板の表面上に、塗布液供給ノズルから塗布液を供給して塗布膜を形成する塗布膜形成方法であって、前記塗布液供給ノズルを基板上で移動させながら、この塗布液供給ノズルから前記基板の表面に塗布液を吐出して塗布膜を形成する工程と、前記塗布膜の膜厚を整える工程とを具備することを特徴とする塗布膜形成方法。
IPC (7件)：
B05C 5/00 101 ,  B05C 11/08 ,  B05C 11/10 ,  B05D 1/40 ,  B05D 7/00 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/027
FI (7件)：
B05C 5/00 101 ,  B05C 11/08 ,  B05C 11/10 ,  B05D 1/40 A ,  B05D 7/00 H ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/30 564 C
Fターム (38件)：
2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025EA05 ,  4D075AC64 ,  4D075AC84 ,  4D075AC92 ,  4D075AC94 ,  4D075DA06 ,  4D075DC21 ,  4D075DC22 ,  4F041AA06 ,  4F041AB01 ,  4F041BA05 ,  4F041BA12 ,  4F041BA21 ,  4F041BA34 ,  4F041BA56 ,  4F042AA06 ,  4F042AA07 ,  4F042BA04 ,  4F042BA05 ,  4F042BA08 ,  4F042BA12 ,  4F042EB18 ,  4F042EB29 ,  5F046CD01 ,  5F046CD06 ,  5F046JA02 ,  5F046JA03 ,  5F046JA05 ,  5F046JA06 ,  5F046JA08 ,  5F046JA10 ,  5F046JA24 ,  5F046LA04 ,  5F046LA06 ,  5F046LA07
引用特許：
審査官引用 (7件)
  • 塗布装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-088135   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 現像装置および現像方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-200084   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 塗布装置および塗布方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-346141   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
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