特許

J-GLOBAL ID：200903095259565860

純水供給システム及び洗浄装置

発明者： 三森 健一 ,  呉 義烈 ,  笠間 泰彦 ,  今岡 孝之 ,  大見 忠弘
出願人/特許権者： 株式会社フロンテック ,  オルガノ株式会社 ,  大見 忠弘
代理人 (1件)： 福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-264545
公開番号（公開出願番号）：特開平11-099382
出願日： 1997年09月29日
公開日（公表日）： 1999年04月13日
要約：

【要約】【課題】 洗浄効率のばらつきが少ない洗浄を可能たらしめる純水供給システムおよび洗浄装置を提供することを目的とする。また、高い洗浄効率を達成することができる純水供給システムおよび洗浄装置を提供することを目的とする。【解決手段】 洗浄システムは、純水を製造する純水製造装置1と、純水製造装置1に接続された純水供給配管10と、純水供給配管10につながる純水使用部3の上流側の純水供給配管10aに接続した純水に基板洗浄に有用なガスを溶解するガス溶解装置40とからなる。洗浄装置は、洗浄槽と、該洗浄槽に至る純水供給配管から供給される純水に基板洗浄用の有用ガスを溶解するガス溶解装置とを具備し、有用ガス溶解後の有用ガス含有純水に超音波を付与するための超音波素子を前記洗浄槽に設けたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

純水を製造する純水製造装置と、該純水製造装置に接続された純水供給配管と、該純水供給配管につながる純水使用部の上流側の純水供給配管に接続した純水に基板洗浄に有用なガスを溶解するガス溶解装置とからなることを特徴とする純水供給システム。

IPC (3件)：

C02F 1/00 ,  C02F 1/20 ,  H01L 21/304 341

FI (3件)：

C02F 1/00 Z ,  C02F 1/20 A ,  H01L 21/304 341 Z

引用特許：

審査官引用 (7件)

• 特開平2-031885
  
• 特開平4-058528
  
• 特開平2-091922
  
• 超音波洗浄方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-043972   出願人：柴野佳英
• 洗浄方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-000904   出願人：大見忠弘
• 洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-177153   出願人：株式会社東芝
• 水素含有超純水の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-252847   出願人：栗田工業株式会社