管理システム及び装置及び方法並びに露光装置及びその制御方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大塚康徳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-129325
公開番号（公開出願番号）：特開2003-324055
出願日： 2002年04月30日
公開日（公表日）： 2003年11月14日
要約：

【要約】【課題】露光装置のグローバルアライメントにおいて用いられるパラメータ値を、量産稼働中に最適化することを可能とする。【解決手段】露光装置1は、ウエハに形成された所定のサンプルショット群を用いてAGA計測を行い、補正パラメータを決定する。そして、得られた補正パラメータを反映させて、ウエハ上の複数のサンプルショットの各々の計測値を取得し、補正パラメータとともに中央処理装置4に通知する(データ転送18)。上記補正パラメータを用いて露光処理されたウエハは、重ね合わせ検査装置3により検査され、複数のサンプルショットの検査計測位置が中央処理装置4に通知される(データ転送19)。中央処理装置4は、複数枚の感光基板に関して収集した補正パラメータ、計測位置及び検査計測位置に基づいてアライメント処理に用いるオフセットを決定し、露光装置1に通知する(データ転送20)。

請求項（抜粋）：

露光装置において感光基板上の複数のショット領域中の一部をサンプルショットとしてアライメント処理を実行するにあたり、特定の感光基板によって得られたサンプルショットの位置検出情報に基づいて、後に同様の処理を実行する別の被露光基板上のサンプルショットの位置検出を適正化する機能を有することを特徴とする管理システム。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 9/00

FI (4件)：

G03F 9/00 H , H01L 21/30 525 W , H01L 21/30 502 G , H01L 21/30 502 V

Fターム (4件)：

5F046AA18 , 5F046AA28 , 5F046DD06 , 5F046FC04

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開平4-324615
半導体装置の製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-319468 出願人：日本電気株式会社
特許第3854921号

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