特許
J-GLOBAL ID:200903095335253880
多層配線基板およびその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-339883
公開番号(公開出願番号):特開2001-156411
出願日: 1999年11月30日
公開日(公表日): 2001年06月08日
要約:
【要約】【課題】ガラスセラミック多層配線基板において、微細配線化、導体の低抵抗化を可能とし、且つ金属箔とガラスセラミック成形体とを同時焼成によって安定して作製することができる多層配線基板の製造方法を提供する。【解決手段】ガラスセラミック組成物からなるグリーンシート表面に、金属成分の含有量が99.5重量%以上の高純度金属導体からなる多孔質の配線回路層を形成したグリーンシートを積層し、この積層物を、高純度金属導体の融点以下の温度に加熱して、配線回路層のx-y軸方向への収縮を伴いながら、グリーンシートを焼結させる。
請求項(抜粋):
ガラスセラミックスから成る絶縁基板と、該絶縁基板の表面及び/または内部に形成された配線回路層とを具備する配線基板であって、該絶縁基板の少なくとも内部に、金属成分の含有量が99.5重量%以上の多孔質の高純度金属導体からなる内部配線回路層を具備してなることを特徴とする多層配線基板。
IPC (3件):
H05K 1/09
, H01B 17/64
, H05K 3/46
FI (5件):
H05K 1/09 A
, H01B 17/64
, H05K 3/46 S
, H05K 3/46 H
, H05K 3/46 N
Fターム (51件):
4E351AA07
, 4E351AA13
, 4E351BB01
, 4E351BB30
, 4E351BB31
, 4E351BB49
, 4E351CC11
, 4E351CC12
, 4E351CC17
, 4E351CC22
, 4E351CC31
, 4E351CC36
, 4E351DD04
, 4E351DD05
, 4E351DD06
, 4E351DD10
, 4E351DD19
, 4E351DD20
, 4E351EE02
, 4E351EE03
, 4E351EE13
, 4E351EE27
, 4E351GG01
, 4E351GG03
, 5E346AA15
, 5E346CC16
, 5E346CC18
, 5E346CC32
, 5E346CC34
, 5E346CC37
, 5E346CC38
, 5E346CC39
, 5E346CC55
, 5E346DD03
, 5E346DD13
, 5E346DD42
, 5E346EE21
, 5E346FF18
, 5E346FF22
, 5E346GG04
, 5E346GG15
, 5E346GG22
, 5E346GG23
, 5E346GG28
, 5E346HH11
, 5E346HH16
, 5E346HH33
, 5G333BA01
, 5G333BA03
, 5G333FB01
, 5G333FB13
引用特許:
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