マイクロ/ナノ構造を基板上にインプリントする方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (4件)：岸田正行 , 水野勝文 , 高野弘晋 , 小川英宣
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-504052
公開番号（公開出願番号）：特表2005-524984
出願日： 2002年05月08日
公開日（公表日）： 2005年08月18日
要約：

(反転インプリント技術) 本発明は、基板上にマイクロ/ナノ構造をインプリントするための方法に関し、この方法は、(a)マイクロ構造のための所望のパターン又はレリーフを有するモールドを準備し、(b)前記モールドにポリマーコートを塗布し、(c)ポリマーコートを前記モールドから適当な温度及び圧力状態の基板に転写して、所望のマイクロ/ナノ構造をその上に有するインプリント基板を形成する。

請求項（抜粋）：

マイクロ/ナノ構造を基板上にインプリントする方法であって、 (a)マイクロ/ナノ構造のための所望のパターン又はレリーフを有するモールドを準備し、 (b)前記モールドにポリマーコートを塗布し、 (c)前記ポリマーコートを前記モールドから基板に適当な温度及び圧力状態で転写して、所望のマイクロ構造を有するインプリントされた基板を形成することを特徴とするマイクロ/ナノ構造を基板上にインプリントする方法。

IPC (2件)：

H01L21/027 , B81C1/00

FI (2件)：

H01L21/30 502D , B81C1/00

Fターム (1件)：

5F046AA28

引用特許：

審査官引用 (8件)

電気化学製造のための物品、方法、および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-142211 出願人：ユニバーシティオブサザンカリフォルニア
マイクロコンタクト・プリンティングによるパターン化されたインジウム亜鉛酸化物フィルムおよびインジウムすず酸化物フィルムの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-117072 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
ナノメ-トルのスケ-ルのパタ-ンの複製
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-327186 出願人：コーニングインコーポレイテッド

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