特許
J-GLOBAL ID：200903095453025213
マスタ-スタンパの製造方法及び光情報記録媒体
発明者：
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-222003
公開番号（公開出願番号）：特開2002-042385
出願日： 2000年07月24日
公開日（公表日）： 2002年02月08日
要約：
【要約】【課題】 基板上に形成したピット及びグルーブが平滑な各面を有する台形状として成形できる基板成形用のマスタ-スタンパを製造する方法を提供する。を提供する。【解決手段】 ROM領域、追記領域を設けた基板1上に、有機色素膜2と反射膜3とを少なくとも積層したP-ROM Aの基板1を成形するマスタ-スタンパ14を製造する方法であって、第1工程〜第7工程を備えている。
請求項（抜粋）：
再生専用領域及び記録再生領域を設けた基板上に、記録膜と反射膜とを少なくとも積層してなる光情報記録媒体の前記基板を成形するマスタ-スタンパを製造するためのマスタ-スタンパの製造方法であって、平坦な基体上に第1レジストを塗布する第1工程と、前記再生専用領域及び前記記録再生領域に対応する前記第1レジスト上の領域に、ウオブリングした連続グル-ブを露光し、この露光の後に現像する第2工程と、前記第1レジストをマスクにして前記基体をドライエッチングし、このドライエッチングの後に前記第1レジストを除去して、前記基体上の前記再生専用領域及び前記記録再生領域に対応する領域に、ウオブリングした前記連続グル-ブを形成する第3工程と、少なくとも前記再生専用領域に対応する前記基体上の領域に第2レジストを塗布する第4工程と、前記再生専用領域内にある前記連続グル-ブをピットの露光直前までに走査して得たトラッキング情報及びアドレス情報に基づいて、前記第2レジスト上に所要のピットを露光し、この露光の後に現像する第5工程と、前記第2レジストをマスクにして前記基体をドライエッチングし、このドライエッチングの後に前記第2レジストを除去して、前記再生専用領域に対応する前記基体上に、ウオブリングした前記連続グル-ブ内にありかつ前記連続グル-ブの深さよりも深いピットを形成する第6工程と、前記再生専用領域及び前記記録再生領域にそれぞれ対応する前記ピット及び前記連続グル-ブを設けた前記基体上に、金属電鋳を施す第7工程とを備え,前記第7工程後、前記基体上から金属膜を剥離することにより、マスタ-スタンパを製造することを特徴とするマスタ-スタンパの製造方法。
IPC (4件)：
G11B 7/26 511
, G11B 7/24 522
, G11B 7/24 561
, G11B 7/24 565
G11B 7/26 511
, G11B 7/24 522 J
, G11B 7/24 561 Q
, G11B 7/24 565 A
5D029JB09
, 5D029WA02
, 5D029WA26
, 5D029WB17
, 5D029WC10
, 5D029WD22
, 5D121BB23
, 5D121BB28
, 5D121BB33
, 5D121CB03
, 5D121CB05
, 5D121CB07
