電子ビーム露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：鈴江武彦 , 河野哲 , 中村誠 , 蔵田昌俊 , 村松貞男 , 橋本良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-195895
公開番号（公開出願番号）：特開2005-032963
出願日： 2003年07月11日
公開日（公表日）： 2005年02月03日
要約：

【課題】電子ビーム露光装置において、被処理基板の表面で散乱された電子による基板周縁部の帯電を防止することによって、パターンの描画精度を高める。【解決手段】帯電防止枠5は、ガラス基板1の周縁部を上方から覆うように配置され、ガラス基板1の表面で散乱された電子を捕捉する。帯電防止枠5の下側には接触子6が取り付けられ、この接触子6をガラス基板1の表面に接触させることにより、ガラス基板1と帯電防止枠5を電気的に導通させる。帯電防止枠5は、アース配線9を介してアースに接続される。好ましくは、帯電防止枠5の支持機構4を、帯電防止枠5を下側からバネ42を介して支持するように構成し、接触子6を介してガラス基板1に作用する荷重を軽減する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被処理基板の周縁部を上方から覆うように配置され、被処理基板の表面で散乱された電子を捕捉する帯電防止枠と、帯電防止枠の下側に取り付けられ、被処理基板の表面と接触することによって被処理基板の表面と帯電防止枠を電気的に導通させる接触子と、帯電防止枠をアースに接続するアース配線と、を備えたことを特徴とする電子ビーム露光装置。

IPC (4件)：

H01L21/027 , G03F7/20 , H01J37/20 , H01J37/305

FI (4件)：

H01L21/30 541L , G03F7/20 521 , H01J37/20 H , H01J37/305 B

Fターム (9件)：

5C001AA01 , 5C001CC06 , 5C034BB06 , 5F056CC04 , 5F056DA23 , 5F056EA14 , 5F056EA15 , 5F056EA18 , 5F056FA10

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開平1-117031
マスクの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-154865 出願人：日本電気株式会社
電子ビーム描画装置用試料ステージ
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-063357 出願人：東芝機械株式会社, 株式会社東芝

全件表示

前のページに戻る