特許
J-GLOBAL ID:200903095560970524
荷電粒子ビーム照射システム
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
磯野 道造
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-020843
公開番号(公開出願番号):特開2006-208200
出願日: 2005年01月28日
公開日(公表日): 2006年08月10日
要約:
【課題】 照射野形成電磁石で荷電粒子ビームを走査可能な範囲を活用して、より大きな照射野を形成することができる荷電粒子ビーム照射システムを提供する。【解決手段】 本発明の荷電粒子ビーム照射システムは、加速器で加速された荷電粒子ビーム30を照射野形成電磁石13,14により走査させながら照射野を形成する荷電粒子ビーム照射システムにおいて、荷電粒子ビーム30をリサージュ図形に沿って走査しながら照射して照射野を形成することを特徴とする。【選択図】 図8
請求項(抜粋):
加速器で加速された荷電粒子ビームを照射野形成電磁石により走査させながら照射野を形成する荷電粒子ビーム照射システムにおいて、
前記荷電粒子ビームをリサージュ図形に沿って走査しながら照射して前記照射野を形成することを特徴とする荷電粒子ビーム照射システム。
IPC (4件):
G21K 5/04
, A61N 5/10
, G21K 1/093
, G21K 1/10
FI (6件):
G21K5/04 S
, G21K5/04 A
, A61N5/10 H
, A61N5/10 J
, G21K1/093 S
, G21K1/10 S
Fターム (5件):
4C082AA01
, 4C082AC05
, 4C082AE02
, 4C082AG12
, 4C082AG35
引用特許:
審査官引用 (7件)
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荷電粒子ビーム装置およびその運転方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-123119
出願人:株式会社日立製作所
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特開昭53-085175
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ビーム照射方法及びその装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-091900
出願人:株式会社日立製作所, 日立エンジニアリング株式会社
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特開昭63-135000
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特開昭51-116400
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荷電粒子線治療方法およびその装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-174571
出願人:株式会社日立製作所
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照射野形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-092647
出願人:石川島播磨重工業株式会社
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