特許
J-GLOBAL ID：200903095585074132

シリカ系皮膜形成用塗布組成物及びシリカ系皮膜形成方法

発明者：
藤田 和男

藤田 和男 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (9件)： 中村 稔 ,  大塚 文昭 ,  熊倉 禎男 ,  宍戸 嘉一 ,  今城 俊夫 ,  小川 信夫 ,  村社 厚夫 ,  西島 孝喜 ,  箱田 篤
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-095786
公開番号（公開出願番号）：特開2004-300311
出願日： 2003年03月31日
公開日（公表日）： 2004年10月28日
要約：
【課題】耐熱性、密着性、耐クラック性に優れ、低誘電率の絶縁膜を形成できる皮膜形成用塗布組成物、これを用いた皮膜形成方法及び皮膜を提供すること。【解決手段】下記成分(A)〜(C)を含むシリカ系皮膜形成用塗布組成物及びこれを用いた皮膜形成方法及びシリカ系皮膜。(A)一般式(I)で表される化合物及び一般式(II)で表される化合物の加水分解物及び/または部分縮合物一般式(I)【化1】(式中、R1は水素原子、アルキル基又はアリール基を示し、R2は不飽和結合を有する有機基を示し、R3はアルキル基を示し、nは0〜2、mは1〜3、0≦n+m≦3である)一般式(II)【化2】(式中、R4はアルキル基又はアリール基を示し、R5は水素原子を示し、R6はアルキル基を示し、p及びqは、0≦p+q≦3を満たす整数である。)(B)中空ポリマー微粒子粉末、及び(C)有機溶剤。
請求項（抜粋）：
(A)一般式(I)で表される化合物及び一般式(II)で表される化合物の加水分解物及び/または部分縮合物、 一般式(I)
IPC (6件)：
C09D183/04 ,  C01B33/12 ,  C09D5/25 ,  C09D7/12 ,  C09D183/02 ,  H01L21/312
FI (6件)：
C09D183/04 ,  C01B33/12 C ,  C09D5/25 ,  C09D7/12 ,  C09D183/02 ,  H01L21/312 C
Fターム (41件)：
4G072AA25 ,  4G072BB09 ,  4G072HH30 ,  4G072KK20 ,  4G072LL11 ,  4G072LL13 ,  4G072LL15 ,  4G072MM36 ,  4G072NN21 ,  4G072UU30 ,  4J038DL021 ,  4J038DL031 ,  4J038HA216 ,  4J038HA446 ,  4J038JA01 ,  4J038JA02 ,  4J038JA03 ,  4J038JA19 ,  4J038JA26 ,  4J038JA27 ,  4J038JA33 ,  4J038JA55 ,  4J038JA56 ,  4J038JB13 ,  4J038JC31 ,  4J038KA04 ,  4J038KA06 ,  4J038KA09 ,  4J038KA21 ,  4J038MA07 ,  4J038NA12 ,  4J038NA21 ,  4J038PB09 ,  4J038PB11 ,  4J038PC02 ,  5F058AA02 ,  5F058AA04 ,  5F058AC03 ,  5F058AF04 ,  5F058AG01 ,  5F058AH02
引用特許：
審査官引用 (5件)
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