特許
J-GLOBAL ID:200903095609274642
塗布用基板、インク塗布システム及びその塗布方法並びにそれを用いたデバイス製造装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (6件):
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 蔵田 昌俊
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-044868
公開番号(公開出願番号):特開2004-253332
出願日: 2003年02月21日
公開日(公表日): 2004年09月09日
要約:
【課題】インクジェット方式により欠陥がなく、均一な液量を塗布できる基板及びインク塗布システム並びにその基板を用いたデバイス製造装置を提供するにある。【解決手段】インク塗布システムにおいては、インクジェット方式によりインクが滴下されるべき画素形成部が区画された列の周辺にダミー用の画素が設けられ、このダミー用の画素形成部は、所定のパターンで区画された小領域に区分されている。このダミー用の画素形成部にインクが滴下されてその小領域上に生ずるパターンが観察され、また、解析される。この解析に基づいて、そのインクの吐出量及び吐出タイミングが決定される。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
インクジェット方式によりインクが滴下されてインクが塗布されるダミー画素形成部を設けた基板であって、このダミー画素形成部は、滴下されたパターンを特定するための細分化された区画を有することを特徴とする塗布用基板。
IPC (9件):
H05B33/02
, B05C5/00
, B05C11/00
, B05C11/10
, B05D1/26
, B05D5/06
, G02B5/20
, H05B33/10
, H05B33/14
FI (10件):
H05B33/02
, B05C5/00 101
, B05C11/00
, B05C11/10
, B05D1/26 Z
, B05D5/06 B
, G02B5/20 101
, H05B33/10
, H05B33/14 A
, B41J3/04 101Z
Fターム (48件):
2C056EA04
, 2C056EB27
, 2C056EB29
, 2C056EB36
, 2C056EB42
, 2C056EC07
, 2C056EC28
, 2C056EC42
, 2C056EC56
, 2C056FB01
, 2H048BA02
, 2H048BA64
, 2H048BB41
, 2H048BB42
, 3K007AB03
, 3K007AB05
, 3K007AB17
, 3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4D075AC06
, 4D075AC09
, 4D075AC88
, 4D075AC93
, 4D075AC94
, 4D075CB07
, 4D075CB09
, 4D075DA06
, 4D075DB13
, 4D075DB43
, 4D075DB53
, 4D075DC19
, 4D075DC21
, 4D075DC24
, 4D075EA07
, 4D075EA33
, 4D075EC07
, 4D075EC11
, 4D075EC17
, 4F041AA05
, 4F041AB01
, 4F041BA21
, 4F041BA38
, 4F042AA06
, 4F042AA10
, 4F042AA28
, 4F042BA08
, 4F042ED03
引用特許:
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