特許
J-GLOBAL ID：200903095694763720
サブリソグラフィフォトレジストフィーチャーを形成するプロセス
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
鈴木 正剛
, 佐野 良太
, 村松 義人
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-578554
公開番号（公開出願番号）：特表2004-530922
出願日： 2001年12月12日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：
集積回路内にサブリソグラフィックィフィーチャーを形成するプロセスである。このプロセスは、パターニングおよびパターン現像後で、下地層をパターン化する前に、フォトレジスト層(16)を変質させる過程を含む。前述の変質されたフォトレジスト層(16)は、垂直方向および横方向において異なるエッチング速度を有する。改変されたフォトレジスト層(16)は、プラズマエッチングでトリミングされる。トリミングされたフォトレジスト層(16)に含まれるフィーチャーは、その横方向のサイズが、サブリソグラフィックサイズとなっている。
請求項（抜粋）：
基板(12)上に配置されたフォトレジスト層(16)にパターン化されたフィーチャー(54)をトリミングする方法であって、前記フィーチャーは、最上部(58)と、側面とを含むものであり、
前記フォトレジスト層上にパターン化された前記フィーチャー(54)の最上部(58)を変質させて、変質された最上部を形成するする過程と、
前記フォトレジスト上にパターン化されたフィーチャをトリミングしてトリミングされたフィーチャを形成する過程と、を有し、
前記最上部の変質によって、前記フィーチャにおける垂直トリミング速度は、横方向トリミング速度よりも遅くされている、方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/40 511
, H01L21/30 570
2H096AA25
, 2H096HA05
, 2H096JA04
, 2H096LA16
, 5F046AA28
