特許
J-GLOBAL ID:200903095994288101

蛍光X線分析装置のバックグラウンド補正方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 藤本 英夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-266214
公開番号(公開出願番号):特開2001-091481
出願日: 1999年09月20日
公開日(公表日): 2001年04月06日
要約:
【要約】【課題】 蛍光X線分析装置において、共存元素影響が小さく、低濃度の試料も正確に定量分析できる蛍光X線分析装置のバックグラウンド補正方法を提供する。【解決手段】 試料3に対してX線2を照射したときにX線検出器5にて測定した蛍光X線強度Sと散乱X線強度BとのX線強度比と、標準試料を用いて得られる検量線とを用いて、試料中の測定対象成分の濃度を得るようにした蛍光X線分析装置において、前記X線強度比Rを計算するのに蛍光X線強度の測定値Sから試料以外の装置要因によるバックグラウンドbを減算した値S-bを蛍光X線強度として用い、このX線強度比R=(S-b)/Bを用いて前記検量線Cを求め、試料3中の測定対象成分の濃度を得る。
請求項(抜粋):
試料に対してX線を照射したときにX線検出器にて測定した蛍光X線強度と散乱X線強度とのX線強度比と、標準試料を用いて得られる検量線とを用いて、試料中の測定対象成分の濃度を得るようにした蛍光X線分析装置において、前記X線強度比を計算するのに少なくとも蛍光X線強度の測定値から試料以外の装置要因によるバックグラウンドを減算した値を蛍光X線強度として用い、このX線強度比を用いて前記検量線を求め、試料中の測定対象成分の濃度を得ることを特徴とする蛍光X線分析装置のバックグラウンド補正方法。
Fターム (12件):
2G001AA01 ,  2G001BA04 ,  2G001CA01 ,  2G001EA06 ,  2G001FA01 ,  2G001FA09 ,  2G001FA12 ,  2G001FA30 ,  2G001GA01 ,  2G001KA01 ,  2G001LA04 ,  2G001NA08
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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