特許
J-GLOBAL ID:200903096123953021

光反射性基板の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大原 拓也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-123399
公開番号(公開出願番号):特開2000-314881
出願日: 1999年04月30日
公開日(公表日): 2000年11月14日
要約:
【要約】【課題】 基本的な工程を変更することなく、耐熱性ネガ型感光性樹脂により、ガラスなどの基板上にほぼ理想的な波形の凹凸からなる光拡散層を形成する。【解決手段】 表面が平滑なガラスもしくはプラスチックからなる基板1の表面1a上に化学増幅系ネガ型感光性樹脂2を所定の厚さに塗布した後、その化学増幅系ネガ型感光性樹脂2を基板1の背面1b側から所定のパターンを有するフォトマスク3を介して部分的に露光して現像することにより、基板1上に感光性樹脂からなる凸部2aを規則的もしくは不規則的に形成して粗面化し、その凸部面を含む一方の基板面全面に金属膜よりなる光反射層を形成する。
請求項(抜粋):
反射型液晶表示素子の一方の基板として用いられる光反射性基板の製造方法において、表面が平滑なガラスもしくはプラスチックからなる基板の一方の面上に化学増幅系ネガ型感光性樹脂を所定の厚さに塗布した後、その化学増幅系ネガ型感光性樹脂を上記基板の他方の面側から所定のパターンを有するフォトマスクを介して部分的に露光して現像することにより、上記基板上に感光性樹脂からなる凸部を規則的もしくは不規則的に形成して粗面化し、その凸部面を含む一方の基板面全面に金属膜よりなる光反射層を形成することを特徴とする光反射性基板の製造方法。
IPC (3件):
G02F 1/1335 520 ,  G02B 5/02 ,  G02B 5/08
FI (3件):
G02F 1/1335 520 ,  G02B 5/02 B ,  G02B 5/08 Z
Fターム (16件):
2H042BA03 ,  2H042BA15 ,  2H042BA20 ,  2H042DA02 ,  2H042DA11 ,  2H042DB08 ,  2H042DC02 ,  2H042DE00 ,  2H091FA32Z ,  2H091FB04 ,  2H091FB08 ,  2H091FC02 ,  2H091FC12 ,  2H091FC23 ,  2H091FC26 ,  2H091GA01
引用特許:
審査官引用 (4件)
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