特許
J-GLOBAL ID:200903096226883404

電界効果トランジスタ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 若林 忠 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-345123
公開番号(公開出願番号):特開平11-177079
出願日: 1997年12月15日
公開日(公表日): 1999年07月02日
要約:
【要約】【課題】 ソース電極とチャネル層間の抵抗を低減し、最大ドレイン電流Imaxやトランスコンダクタンスgm等の素子特性に優れ、信頼性の高い電解効果トランジスタを提供する。【解決手段】 GaAs基板上に設けたGaAs又はInGaAsをチャネルとする電界効果トランジスタにおいて、GaAsに格子整合し、バンドギャップエネルギーがGaAsよりも大きいアンドープ又は低濃度n型ショットキ層をリセス内に選択成長し、該ショットキ層上にゲートが形成された構成にする。
請求項(抜粋):
GaAs基板上に設けられたGaAs又はInGaAsをチャネルとする電界効果トランジスタにおいて、GaAsに格子整合し、バンドギャップエネルギーがGaAsよりも大きいアンドープ又は低濃度n型ショットキ層をリセス内に選択成長し、該ショットキ層上にゲートが形成されたことを特徴とする電界効果トランジスタ。
IPC (3件):
H01L 29/778 ,  H01L 21/338 ,  H01L 29/812
引用特許:
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る