特許
J-GLOBAL ID：200903096243004368
磁気記録媒体及びその製造方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-267876
公開番号（公開出願番号）：特開平8-129747
出願日： 1994年10月31日
公開日（公表日）： 1996年05月21日
要約：
【要約】【目的】 薄い膜厚でも十分な耐久性を確保できる保護膜を形成する。【構成】 真空薄膜形成技術により強磁性金属薄膜が形成された非磁性支持体1上にDLC膜を保護膜として形成する際に、反応管6(又は反応室)内部の一部を二室6a,6b以上に間仕切りし、これら間仕切りされた室6a,6b内にそれぞれ炭化水素ガス、フッ化炭素ガスを導入して、上記強磁性金属薄膜近傍部に水素を多く含有するDLC膜が形成され、表面近傍にフッ素を多く含有するDLC膜が形成されるようにする。
請求項（抜粋）：
非磁性支持体上に真空薄膜形成技術により形成された強磁性金属薄膜上にダイヤモンド状硬質炭素膜が形成されてなる磁気記録媒体において、上記強磁性金属薄膜近傍部に水素を多く含有するダイヤモンド状硬質炭素膜が形成され、表面近傍にフッ素を多く含有するダイヤモンド状硬質炭素膜が形成されてなる構造を有することを特徴とする磁気記録媒体。
IPC (2件)：
引用特許：
前のページに戻る
