特許
J-GLOBAL ID：200903096278210866

オーバーレイ精度とパターン配置誤差とを同時に測定する方法

発明者：
ベルント シュルツ

ベルント シュルツ について


出願人/特許権者：
アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド

アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド について


代理人 (3件)： 鈴木 正剛 ,  佐野 良太 ,  村松 義人
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-533356
公開番号（公開出願番号）：特表2009-510770
出願日： 2006年08月23日
公開日（公表日）： 2009年03月12日
要約：
本発明は、単一の測定構造(200)からオーバーレイ誤差とパターン配置誤差情報とを取得する技術を提供する。これは、単一の測定構造(221、241)において少なくとも2つの異なるデバイス層に周期的サブ構造(210、220、240、250)を形成することで実現される。ここでは、少なくとも1つのセグメント化された部位(200)と非セグメント化部位(211、251)とは2つの異なるデバイス層に供給される。
請求項（抜粋）：
第1周期的サブ構造(210)と第2周期的サブ構造(220)とを備えるとともに、基板上に形成された特定の計測サイトの第1デバイス層に形成された第1周期的構造(230)を有し、この第1周期的構造(230)の前記第1および第2周期的構造は、それぞれ複数の第1構造素子(211、221)を含み、前記第1構造素子のいくつかは第1のセグメント化された部位を含むものであり、 第1周期的サブ構造(240)と第2周期的サブ構造(250)とを備えるとともに、前記第1デバイス層の上方に配置された第2デバイス層に形成された第2周期的構造(260)を有し、この第2周期的構造(260)の前記第1および第2サブ構造は、それぞれ複数の第2構造素子(241、251)を含み、前記第2構造素子のいくつかは第2のセグメント化された部位を含むものであり、前記第1および第2周期的構造(230、260)は、前記特定の測定サイトに周期的スタック構造を形成する、オーバーレイ測定構造。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 9/00
FI (4件)：
H01L21/30 525W ,  H01L21/30 522D ,  H01L21/30 502V ,  G03F9/00 A
Fターム (15件)：
2H097KA03 ,  2H097KA12 ,  2H097KA13 ,  2H097KA20 ,  2H097KA22 ,  2H097KA29 ,  2H097LA10 ,  5F046EA04 ,  5F046EA07 ,  5F046EA09 ,  5F046EA10 ,  5F046EB07 ,  5F046ED01 ,  5F046FA10 ,  5F046FC04
引用特許：
審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM