特許
J-GLOBAL ID：200903096400347959

レーザープラズマ発生装置

発明者：
村井 健介

村井 健介 について


出願人/特許権者：
独立行政法人産業技術総合研究所

独立行政法人産業技術総合研究所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-348923
公開番号（公開出願番号）：特開2005-116331
出願日： 2003年10月08日
公開日（公表日）： 2005年04月28日
要約：
【課題】簡潔な構造からなり、プラズマ発生量が多く、エネルギー変換効率が高く、デブリレスのレーザープラズマ発生装置を提供することを主な目的とする。【解決手段】間歇的に噴射されるターゲット材料に対しパルスレーザー光を照射することによりプラズマを発生させ、該プラズマにより高エネルギーフォトンを発生させるための装置であって、パルスレーザー集光用レンズの中心部に開口を設け、該開口を通過するターゲット材料の噴射ノズルの軸とレンズ軸とを一致させたことを特徴とするレーザープラズマ発生装置;および上記のレーザープラズマ発生装置を用いて高エネルギーフォトンを発生させる方法において、ターゲット材料が、ガス、液体、または微粒子を含むガス流である方法。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
間歇的に噴射されるターゲット材料に対しパルスレーザー光を集光照射することによりレーザープラズマを発生させ、該プラズマにより高エネルギーフォトンを発生させるための装置であって、パルスレーザー集光用レンズの中心部に開口を設け、該開口を通過するターゲット材料の噴射ノズルの軸とレンズ軸とを一致させたことを特徴とするレーザープラズマ発生装置。
IPC (4件)：
H05H1/24 ,  G21K1/00 ,  G21K5/08 ,  H05G2/00
FI (5件)：
H05H1/24 ,  G21K1/00 X ,  G21K5/08 X ,  G21K5/08 Z ,  H05G1/00 K
Fターム (5件)：
4C092AA07 ,  4C092AA13 ,  4C092AA14 ,  4C092AA15 ,  4C092AB21
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
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