基板移動装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-310397
公開番号（公開出願番号）：特開2003-115527
出願日： 2001年10月05日
公開日（公表日）： 2003年04月18日
要約：

【要約】【課題】本発明は真空環境下において被処理基板を移動させる真空ステージ装置に関し、真空処理室内で被加工基板を高速に移動させることを課題とする。【解決手段】ウェハプラテン12に装着されたウェハ20を真空処理室11内で移動させる基板移動装置であって、ウェハプラテン12をY1方向に移動させる第1の駆動機構13Aと、真空処理室11内に配設されておりウェハプラテン12をX1,X2方向に高速で往復直線移動させる第2の駆動機構14Aとを有する。

請求項（抜粋）：

基台に装着された被処理基板を真空処理室内で移動させる基板移動装置であって、前記基台を移動させる第1の駆動機構と、前記真空処理室内に配設されており、前記基台を前記第1の駆動機構による往復移動方向と直交する方向に前記第1の駆動機構による移動速度よりも高速で往復移動させる第2の駆動機構とを具備することを特徴とする基板移動装置。

IPC (6件)：

H01L 21/68 , F15B 15/14 , F15B 15/14 330 , F15B 15/14 380 , G12B 5/00 , H01L 21/027

FI (7件)：

H01L 21/68 K , F15B 15/14 Z , F15B 15/14 330 , F15B 15/14 380 A , G12B 5/00 T , H01L 21/30 541 L , H01L 21/30 502 J

Fターム (50件)：

2F078CA01 , 2F078CB03 , 2F078CB13 , 2F078CC07 , 2F078CC20 , 3H081AA02 , 3H081AA34 , 3H081BB01 , 3H081BB03 , 3H081CC23 , 3H081DD12 , 3H081DD33 , 3H081DD40 , 3H081HH04 , 5F031CA02 , 5F031FA01 , 5F031FA02 , 5F031FA07 , 5F031FA09 , 5F031GA09 , 5F031GA37 , 5F031GA48 , 5F031GA49 , 5F031HA01 , 5F031HA16 , 5F031HA19 , 5F031HA38 , 5F031HA42 , 5F031HA45 , 5F031HA57 , 5F031HA58 , 5F031HA59 , 5F031LA02 , 5F031LA03 , 5F031LA04 , 5F031LA08 , 5F031LA12 , 5F031LA13 , 5F031LA15 , 5F031LA18 , 5F031MA27 , 5F031MA31 , 5F031MA32 , 5F031NA05 , 5F031PA02 , 5F031PA04 , 5F046CC01 , 5F046CC17 , 5F056CB23 , 5F056EA14

引用特許：

審査官引用 (6件)

真空内リニアアクチュエータ機構及びその制御方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-158320 出願人：住友重機械工業株式会社
特開平1-188242
リニアモータ用可動コイル及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-273579 出願人：住友重機械工業株式会社, 株式会社アサヒ電気研究所

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