特許

J-GLOBAL ID：200903096409500806

カーボンナノチューブの製造方法

発明者： 畠 賢治 ,  西野 秀和 ,  湯村 守雄
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-005074
公開番号（公開出願番号）：特開2008-169092
出願日： 2007年01月12日
公開日（公表日）： 2008年07月24日
要約：

【課題】特定の形態の触媒を用い、得られる複数のカーボンナノチューブの密度を容易に制御することができ、量産可能なカーボンナノチューブの製造方法を提供する。【解決手段】基板上に触媒としてコロイド状金属触媒を配置し、原料ガスを供給するとともに、反応雰囲気中に水分を存在させて化学気相成長(CVD)法によりカーボンナノチューブを成長形成させることを特徴とするカーボンナノチューブの製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

基板上に触媒としてコロイド状金属触媒を配置し、原料ガスを供給するとともに、反応雰囲気中に水分を存在させて化学気相成長(CVD)法によりカーボンナノチューブを成長形成させることを特徴とするカーボンナノチューブの製造方法。

IPC (2件)：

C01B 31/02 ,  B01J 23/88

FI (2件)：

C01B31/02 101F ,  B01J23/88 M

Fターム (44件)：

4G146AA11 ,  4G146AA12 ,  4G146AB06 ,  4G146AC02B ,  4G146AC03B ,  4G146AC08B ,  4G146AC09B ,  4G146AC16B ,  4G146AC27B ,  4G146AD05 ,  4G146AD22 ,  4G146AD28 ,  4G146BA12 ,  4G146BA48 ,  4G146BB22 ,  4G146BB23 ,  4G146BC09 ,  4G146BC23 ,  4G146BC25 ,  4G146BC26 ,  4G146BC28 ,  4G146BC33B ,  4G146BC38B ,  4G146BC41 ,  4G146BC43 ,  4G146BC44 ,  4G146BC48 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA01B ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BC59A ,  4G169BC59B ,  4G169BC66A ,  4G169BC66B ,  4G169CB81 ,  4G169DA06 ,  4G169EA08 ,  4G169EB19 ,  4G169FA01 ,  4G169FA03 ,  4G169FB23 ,  4G169FC08

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 単層カーボンナノチューブおよび配向単層カーボンナノチューブ・バルク構造体ならびにそれらの製造方法・装置および用途
  公報種別：再公表公報   出願番号：JP2005014239   出願人：独立行政法人産業技術総合研究所

審査官引用 (3件)

• カーボンナノチューブの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-257457   出願人：工業技術院長, 大嶋哲, 吾郷浩樹, 湯村守雄, 内田邦夫, 伊ヶ崎文和, 栗木安則
• カーボンナノチューブカソードの製造方法およびカーボンナノチューブカソード
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-030226   出願人：株式会社ノリタケカンパニーリミテド
• 炭素系一次元材料およびその合成方法ならびに炭素系一次元材料合成用触媒およびその合成方法ならびに電子素子およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-120461   出願人：ソニー株式会社