特許
J-GLOBAL ID：200903096424388605

走査型露光装置

発明者：
牧野内 進

牧野内 進 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-189153
公開番号（公開出願番号）：特開平10-041205
出願日： 1996年07月18日
公開日（公表日）： 1998年02月13日
要約：
【要約】【課題】 走査露光時にステージ系の機械的な共振等を励起することなく、レチクルとウエハとの間の位置ずれ量を小さくする。【解決手段】 干渉計17で計測されたウエハステージの4箇所の位置WX1,WX2,WY1,WY2を演算手段15cに供給し、演算手段15c及び差分器31X〜31Rではその位置より求めたレチクルステージの目標位置と実際のレチクルステージの位置との誤差ΔRX,ΔRL,ΔRRを求め、この誤差をレチクルステージ制御系17にフィードバックする。更に、ウエハステージとレチクルステージとの走査方向の傾斜角に対応する補正速度αX・VW*を演算手段15dで求め、この補正速度をレチクルステージ制御系17にフィードフォワード方式で供給して、その傾斜角の補正を行う。
請求項（抜粋）：
転写用のパターンが形成されたマスクを移動するマスク側ステージと、感光性の基板を移動する基板側ステージとを有し、前記マスクを露光用の照明光で照明した状態で、前記マスク側ステージを介して前記マスクを所定方向に走査するのと同期して、前記基板側ステージを介して前記基板を前記所定方向に対応する方向に走査することにより、前記基板上に前記マスクのパターンを逐次露光する走査型露光装置において、前記マスク側ステージ及び前記基板側ステージの動作を所定の位置関係を保って制御するための制御情報を生成する演算制御手段と、前記マスク側ステージと前記基板側ステージとの予め計測してある位置関係の誤差を補正するための補正情報を前記演算制御手段で生成される制御情報に加算する誤差補正手段と、を有することを特徴とする走査型露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (3件)：
H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 B
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 走査型露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-205975   出願人：株式会社ニコン
  • 走査型露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-135615   出願人：株式会社ニコン
  • 走査型投影露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-174161   出願人：株式会社ニコン

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