特許
J-GLOBAL ID：200903096609476624

基板処理装置および基板処理方法

発明者：
柳沢 暢生

柳沢 暢生 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-159442
公開番号（公開出願番号）：特開2001-338864
出願日： 2000年05月30日
公開日（公表日）： 2001年12月07日
要約：
【要約】【課題】角型基板上面の処理不良を抑え、角型基板上面を均一に処理することが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供する。【解決手段】ローラコンベア10によって角型基板Sが搬送されつつ、現像液Gがスリットノズル5から角型基板Sの上面へ供給され液盛りされる。そして、スリットノズル5が角型基板Sの上方を通過する際には、スリットノズル5から最初に現像液Gが供給される角型基板Sの1辺S1と、スリット開口51が沿う水平な直線Lとが互いにねじれの位置関係となるように、スリットノズル5が配置されている。
請求項（抜粋）：
水平面に含まれる所定の線に沿って設けられた吐出口を有し、この吐出口から、水平に保持された角型基板の上面に処理液を供給する液供給手段と、この液供給手段が角型基板の上方を通過するように、液供給手段および角型基板のうちの少なくともいずれか一方を移動させる移動手段と、を備え、上記吐出口が沿う所定の線は少なくとも直線を含むものであり、かつ、上記移動手段によって液供給手段が角型基板の上方を通過する際に、上記液供給手段から最初に処理液が供給される角型基板の1辺と、上記吐出口が沿う直線とが互いにねじれの位置関係にあることを特徴とする基板処理装置。
IPC (11件)：
H01L 21/027 ,  B05B 1/04 ,  B05B 1/14 ,  B05C 5/02 ,  B05C 11/08 ,  B05C 13/02 ,  B05D 1/26 ,  B65G 49/06 ,  G02F 1/13 101 ,  G03F 7/30 501 ,  G03F 7/30 502
FI (11件)：
B05B 1/04 ,  B05B 1/14 Z ,  B05C 5/02 ,  B05C 11/08 ,  B05C 13/02 ,  B05D 1/26 Z ,  B65G 49/06 Z ,  G02F 1/13 101 ,  G03F 7/30 501 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/30 569 D
Fターム (51件)：
2H088FA17 ,  2H088FA21 ,  2H088FA23 ,  2H088FA24 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  2H096AA24 ,  2H096AA27 ,  2H096GA23 ,  2H096GA24 ,  4D075AC02 ,  4D075AC06 ,  4D075AC09 ,  4D075AC65 ,  4D075AC77 ,  4D075AC79 ,  4D075AC88 ,  4D075AC93 ,  4D075CA47 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DC24 ,  4D075EA07 ,  4F033AA01 ,  4F033AA04 ,  4F033AA14 ,  4F033BA03 ,  4F033CA05 ,  4F033DA05 ,  4F033EA01 ,  4F033EA06 ,  4F041AA02 ,  4F041AA05 ,  4F041AB01 ,  4F041BA05 ,  4F041BA12 ,  4F041BA13 ,  4F041BA21 ,  4F041CA02 ,  4F041CA22 ,  4F042AA02 ,  4F042AA10 ,  4F042DF19 ,  4F042DF31 ,  4F042EB09 ,  4F042EB13 ,  4F042EB18 ,  5F046LA03 ,  5F046LA04 ,  5F046LA11
引用特許：
審査官引用 (4件)
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