特許
J-GLOBAL ID:200903096853980601
成膜方法及びその装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
浅井 章弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-130260
公開番号(公開出願番号):特開平10-079378
出願日: 1997年05月02日
公開日(公表日): 1998年03月24日
要約:
【要約】【課題】 金属酸化膜の成膜レートを向上させることができる成膜方法を提供する。【解決手段】 被処理体Wに金属酸化膜を形成する成膜装置において、真空引き可能になされた処理容器46と、この処理容器内に収容される被処理体を載置する載置台58と、前記処理容器内に気化状態の金属酸化膜原料を供給する原料供給手段6と、前記処理容器内に気化状態のアルコールを供給するアルコール供給手段8と、前記処理容器内を真空引きする真空排気系54とを備えるように構成する。このようにアルコールを添加することにより、成膜レートを大幅に向上させる。
請求項(抜粋):
被処理体に金属酸化膜を形成する成膜装置において、真空引き可能になされた処理容器と、この処理容器内に収容される被処理体を載置する載置台と、前記処理容器内に気化状態の金属酸化膜原料を供給する原料供給手段と、前記処理容器内に気化状態のアルコールを供給するアルコール供給手段と、前記処理容器内を真空引きする真空排気系とを備えるように構成したことを特徴とする成膜装置。
IPC (4件):
H01L 21/31
, C23C 16/40
, C23C 16/44
, H01L 21/316
FI (4件):
H01L 21/31 B
, C23C 16/40
, C23C 16/44 C
, H01L 21/316 X
引用特許:
審査官引用 (4件)
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薄膜形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-066356
出願人:オリンパス光学工業株式会社, シメトリックス・コーポレーション
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金属酸化膜の形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-060400
出願人:株式会社東芝
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金属酸化膜の形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-229277
出願人:株式会社東芝
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