Ag合金反射膜、スパッタリングターゲットおよびAg合金薄膜製造方法

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (3件)：東田潔 , 山下雅昭 , 打揚洋次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-363648
公開番号（公開出願番号）：特開2004-197117
出願日： 2002年12月16日
公開日（公表日）： 2004年07月15日
要約：

【課題】高反射率を有し、基板との密着性、耐蝕性にも優れたAg合金反射膜、スパッタリングターゲットおよびAg合金薄膜製造方法の提供。【解決手段】Agを主成分としAuを0.1〜4.0at%およびSnを0.1〜2.5at%含有してなるAg合金膜。この合金組成と同じ組成を有するスパッタリングターゲット。このターゲットを用い、スパッタリングガスとしてのArガスと添加ガスのO2、H2OおよびH2+O2から選ばれた少なくとも1つのガスとを供給してスパッタし、酸素を含有する上記Ag合金膜を製造する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

Agを主成分としてAuおよびSnを含有するAg合金からなり、Au含有量が0.1〜4.0at%、Sn含有量が0.1〜2.5at%であることを特徴とするAg合金反射膜。

IPC (7件)：

C23C14/14 , C22C5/06 , C23C14/34 , G02F1/1335 , G02F1/1343 , H05B33/14 , H05B33/26

FI (7件)：

C23C14/14 D , C22C5/06 Z , C23C14/34 A , G02F1/1335 520 , G02F1/1343 , H05B33/14 A , H05B33/26 Z

Fターム (30件)：

2H091FA14Y , 2H091FB08 , 2H091FC03 , 2H091FC28 , 2H091FD23 , 2H091GA03 , 2H091LA16 , 2H092HA05 , 2H092HA14 , 2H092KB04 , 2H092MA05 , 2H092MA23 , 2H092NA01 , 2H092NA18 , 2H092PA12 , 3K007AB05 , 3K007AB11 , 3K007AB12 , 3K007AB14 , 3K007AB17 , 3K007AB18 , 3K007CC01 , 3K007DB03 , 3K007FA01 , 4K029BA22 , 4K029BD09 , 4K029CA05 , 4K029CA06 , 4K029DC04 , 4K029EA05

引用特許：

審査官引用 (9件)

光情報記録媒体用の反射層または半透明反射層、光情報記録媒体及び光情報記録媒体用スパッタリングターゲット
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-395894 出願人：株式会社神戸製鋼所
反射鏡およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-290872 出願人：松下電工株式会社
反射型液晶表示装置及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-194692 出願人：凸版印刷株式会社

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引用文献：

審査官引用 (2件)

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