透明導電膜の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：東平正道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-001985
公開番号（公開出願番号）：特開平11-200033
出願日： 1998年01月08日
公開日（公表日）： 1999年07月27日
要約：

【要約】【課題】透明導電膜の表面改質処理を、煩雑な処理工程を経ることなく、また廃液処理をする必要もなく、簡略な方法により行うことができ、しかも表面改質処理後の透明導電膜が均一な化学組成を有し耐久性に優れている透明導電膜を得ることのできる方法を提供すること。【解決手段】透明基材上にスパッタリング法により酸化インジウムと酸化亜鉛を主成分とする透明導電膜を製膜した後、逆スパッタリング法により該透明導電膜の表層部を除去することにより、表面改質された透明導電膜を製造する。

請求項（抜粋）：

透明基材上に、スパッタリング法により酸化インジウムと酸化亜鉛を主成分とする透明導電膜を製膜した後、逆スパッタリング法により該透明導電膜の表層部を除去することを特徴とする透明導電膜の製造方法。

IPC (7件)：

C23C 14/34 , C01G 15/00 , C23C 14/08 , C23C 14/58 , G02F 1/1343 , H01B 1/08 , H01B 13/00 503

FI (8件)：

C23C 14/34 S , C01G 15/00 B , C23C 14/08 C , C23C 14/08 D , C23C 14/58 Z , G02F 1/1343 , H01B 1/08 , H01B 13/00 503 B

引用特許：

審査官引用 (8件)

ターゲットおよびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-315084 出願人：出光興産株式会社
特開昭61-290607
特開昭61-290605

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