特許

J-GLOBAL ID：200903096894845417

ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

発明者： 岩下 淳
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-141740
公開番号（公開出願番号）：特開2006-317803
出願日： 2005年05月13日
公開日（公表日）： 2006年11月24日
要約：

【課題】 アルカリ現像液に対する溶解性を向上できるネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)アルカリ可溶性樹脂成分、(B)露光により酸を発生する酸発生剤成分、および(C)架橋剤成分を含有するネガ型レジスト組成物であって、前記(A)アルカリ可溶性樹脂成分が、フッ素化されたヒドロキシアルキル基を1つ有する脂肪族環式基を含有する構成単位(a1)と、フッ素化されたヒドロキシアルキル基を2つ以上有する脂肪族環式基を含有する構成単位(a2)とを含む高分子化合物(A1)を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A)アルカリ可溶性樹脂成分、(B)露光により酸を発生する酸発生剤成分、および(C)架橋剤成分を含有するネガ型レジスト組成物であって、 前記(A)アルカリ可溶性樹脂成分が、フッ素化されたヒドロキシアルキル基を1つ有する脂肪族環式基を含有する構成単位(a1)と、フッ素化されたヒドロキシアルキル基を2つ以上有する脂肪族環式基を含有する構成単位(a2)とを含む高分子化合物(A1)を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/038 ,  C08F 220/10 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F7/038 601 ,  C08F220/10 ,  H01L21/30 502R

Fターム (32件)：

2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA03S ,  4J100BB18P ,  4J100BB18Q ,  4J100BC01Q ,  4J100BC08P ,  4J100BC09R ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100CA31 ,  4J100HA53 ,  4J100HC57 ,  4J100HC63 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特公平8-3635号公報
  
• ネガ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-037847   出願人：東京応化工業株式会社

審査官引用 (3件)

• レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-334951   出願人：信越化学工業株式会社
• ネガ型レジスト組成物、及びそれを用いたレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-166308   出願人：東京応化工業株式会社
• 含フッ素重合性単量体およびそれを用いた高分子化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-222530   出願人：セントラル硝子株式会社, 東ソ-・エフテック株式会社