特許
J-GLOBAL ID：200903096844617880
ネガ型レジスト組成物、及びそれを用いたレジストパターン形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-166308
公開番号（公開出願番号）：特開2005-003863
出願日： 2003年06月11日
公開日（公表日）： 2005年01月06日
要約：
【課題】ドライエッチング耐性および走査電子顕微鏡(SEM)による電子線への耐性を向上させるとともにアルカリ現像液に対する溶解性を維持し、さらに高解像性を有するネガ型レジスト組成物を提供することを課題とする。【解決手段】モノマー成分として少なくともα-(ヒドロキシアルキル)アクリル酸、α-(ヒドロキシアルキル)アクリル酸アルキルエステル、及び(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルの中から選ばれる少なくとも1種のモノマーと、他のエチレン性不飽和カルボン酸及びエチレン性不飽和カルボン酸エステルの中から選ばれる少なくとも1種のモノマーとを有する共重合体と、酸発生剤とを含有するネガ型レジスト組成物であって、前記共重合体のモノマー成分として、さらに少なくともフッ素化された基を有する脂環式構造を有するモノマーを含むことを特徴とする。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
ホトレジスト層に用いて好適な、モノマー成分として少なくとも、α-(ヒドロキシアルキル)アクリル酸、α-(ヒドロキシアルキル)アクリル酸アルキルエステル、及び(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルの中から選ばれる少なくとも1種のモノマーと、他のエチレン性不飽和カルボン酸及びエチレン性不飽和カルボン酸エステルの中から選ばれる少なくとも1種のモノマーとを有する共重合体と、酸発生剤とを含有するネガ型レジスト組成物であって、
前記共重合体のモノマー成分として、さらに少なくともフッ素化された基を有する脂環式構造を有するモノマーを含むことを特徴とするネガ型レジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F7/038
, C08F220/28
, G03F7/033
, H01L21/027
G03F7/038 601
, C08F220/28
, G03F7/033
, H01L21/30 502R
2H025AA02
, 2H025AA04
, 2H025AA09
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025BD42
, 2H025BE00
, 2H025CC20
, 2H025FA03
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 4J100AJ02Q
, 4J100AJ09Q
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100AL34Q
, 4J100AL39Q
, 4J100BA03P
, 4J100BC07Q
, 4J100BC08Q
, 4J100BC08R
, 4J100BC09Q
, 4J100BC09R
, 4J100BC53R
, 4J100CA05
, 4J100DA01
, 4J100JA38
