特許

J-GLOBAL ID：200903097045164780

導電性パターン基材の製造方法

発明者： 小林 弘典 ,  山下 雄大
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-115961
公開番号（公開出願番号）：特開2003-309344
出願日： 2002年04月18日
公開日（公表日）： 2003年10月31日
要約：

【要約】【課題】 加算的な手法で導電性パターンを形成する際、基材上に反応性を有する層が残存していると、得られる導電性パターン基材の安定性が損なわれる点を解消することを課題とする。【解決手段】 第1の基材2上に濡れ性変化性層3が積層された濡れ性変化性基材1上に、第2の基材5上に光触媒層6が積層された光触媒基材4を重ねて、パターン露光することにより濡れ性パターンを形成させ、さらに導電性塗液等を付着させることにより、光触媒を含まない導電性パターン基材を製造することができた。

請求項（抜粋）：

第1の基材上に前記光触媒の作用により表面の濡れ性が変化し得る素材からなる濡れ性変化性層を有する濡れ性変化性基材と、第2の基材上に光触媒からなるか、もしくは光触媒を含有する樹脂組成物からなる光触媒層が積層された光触媒基材とを準備し、前記光触媒基材と前記濡れ性変化性基材とを、前記光触媒層と前記濡れ性変化性層の両者が接触するか、もしくは両者の作用距離内になるよう配置させ、その後、光をパターン状に照射することにより、前記濡れ性変化性層の表面に、前記光の照射部に対応した濡れ性の高い領域と前記光の未照射部に対応した濡れ性の低い領域とからなる濡れ性パターンを形成させ、前記濡れ性パターンが形成された濡れ性変化性層に対し、透明導電膜形成用組成物を全面に接触させることにより、前記の濡れ性の高い領域に対して選択的に透明導電膜形成用組成物を付着させ、その後、前記の付着させた透明導電膜形成用組成物を固化させて、導電性パターンを形成することを特徴とする導電性パターン基材の製造方法。

IPC (6件)：

H05K 3/10 ,  B01J 35/02 ,  G02F 1/1343 ,  G02F 1/1345 ,  H01B 13/00 503 ,  H05K 3/04

FI (6件)：

H05K 3/10 Z ,  B01J 35/02 J ,  G02F 1/1343 ,  G02F 1/1345 ,  H01B 13/00 503 D ,  H05K 3/04 Z

Fターム (68件)：

2H092GA13 ,  2H092GA26 ,  2H092GA33 ,  2H092GA41 ,  2H092HA01 ,  2H092HA02 ,  2H092HA03 ,  2H092HA04 ,  2H092HA05 ,  2H092HA06 ,  2H092HA11 ,  2H092JB01 ,  2H092JB11 ,  2H092JB21 ,  2H092JB51 ,  2H092JB61 ,  2H092KB01 ,  2H092KB11 ,  2H092MA01 ,  2H092MA09 ,  2H092MA12 ,  2H092NA25 ,  2H092NA27 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069CD10 ,  4G069EA08 ,  4G069ED02 ,  4G069FB23 ,  5E339AA01 ,  5E339AB05 ,  5E339AD01 ,  5E339BB01 ,  5E339BC01 ,  5E339BC02 ,  5E339BC03 ,  5E339BC05 ,  5E339BD03 ,  5E339BD08 ,  5E339BD14 ,  5E339BE01 ,  5E339BE20 ,  5E339EE05 ,  5E339GG02 ,  5E343AA02 ,  5E343AA26 ,  5E343AA34 ,  5E343BB23 ,  5E343BB24 ,  5E343BB25 ,  5E343BB28 ,  5E343BB34 ,  5E343BB35 ,  5E343BB38 ,  5E343BB39 ,  5E343BB40 ,  5E343BB44 ,  5E343BB45 ,  5E343BB48 ,  5E343BB49 ,  5E343BB59 ,  5E343CC17 ,  5E343DD80 ,  5E343ER33 ,  5E343GG11 ,  5G323CA05

引用特許：

審査官引用 (3件)

• パターン形成体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-053774   出願人：大日本印刷株式会社
• 微細構造体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-098158   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 透明導電膜及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-079571   出願人：大日本印刷株式会社