特許

J-GLOBAL ID：200903097059856919

露光装置

発明者： 黒沢 博史
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-148831
公開番号（公開出願番号）：特開2001-332471
出願日： 2000年05月19日
公開日（公表日）： 2001年11月30日
要約：

【要約】【課題】 周辺ショットへの不良ショットの影響を最小限に抑え、不良ショットの低減を図り、またオペレータによるミスオペレーションを低減させ、さらに露光処理工程の中だけでウエハチャックの汚染を検出する露光装置を提供する。【解決手段】 走査中に露光対象となるショットの領域を規定のフォーカス位置決め精度内に追い込めない場合、該ショットをエラーの発生したショットと判定する判定手段を有し、パルスレーザ光源116からの露光光を制御する制御手段がウエハステージコントローラ101に実装され、該判定手段から未露光フォーカスエラーが判定された場合には、該制御手段によりパルスレーザ光源116の発光が停止(露光光の遮断)され、該判定手段から露光中断フォーカスエラーが判定された場合には、強制露光手段によりショット内に残った最後の部分まで露光が継続されることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

フォーカス検出機構からの信号を受けて基板の表面を結像面に位置決めして原版のパターンを転写露光する露光装置において、前記基板における露光対象となるショットの領域を規定のフォーカス位置決め精度内に追い込めない場合、該ショットをエラーの発生したショットと判定する判定手段と、前記基板が前記露光装置に備えられたステージにより所定のポジションとされ、前記原版のパターンを前記基板の前記ショットに強制的に転写露光する強制露光手段とを具備することを特徴とする露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G01B 11/26 ,  G03F 7/207

FI (5件)：

G01B 11/00 B ,  G01B 11/26 Z ,  G03F 7/207 H ,  H01L 21/30 502 G ,  H01L 21/30 526 B

Fターム (33件)：

2F065AA06 ,  2F065AA31 ,  2F065AA49 ,  2F065CC20 ,  2F065CC25 ,  2F065FF67 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ08 ,  2F065NN20 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ26 ,  2F065QQ27 ,  2F065QQ42 ,  2F065RR06 ,  2F065SS04 ,  2F065SS13 ,  5F046AA28 ,  5F046BA05 ,  5F046CA04 ,  5F046CC01 ,  5F046CC03 ,  5F046CC05 ,  5F046CC06 ,  5F046CC08 ,  5F046DA05 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05 ,  5F046DC10 ,  5F046DD01 ,  5F046DD06

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-245883   出願人：株式会社日立製作所, 日立北海セミコンダクタ株式会社
• 電子線描画装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-193149   出願人：株式会社日立製作所, 日立計測エンジニアリング株式会社
• 走査型露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-175067   出願人：株式会社ニコン
• 特開昭63-014431