特許
J-GLOBAL ID：200903097127682061

化学反応装置および燃料電池システム

発明者：
河村 義裕

河村 義裕 について

, 
小椋 直嗣

小椋 直嗣 について


出願人/特許権者：
カシオ計算機株式会社

カシオ計算機株式会社 について


代理人 (1件)： 花輪 義男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-094272
公開番号（公開出願番号）：特開2003-290651
出願日： 2002年03月29日
公開日（公表日）： 2003年10月14日
要約：
【要約】【課題】 シリコン基板の一面に形成された微小な流路内に設けられた反応触媒層に熱エネルギーを供給する化学反応装置において、流路内の加熱温度を精密に制御するとともに、熱エネルギーの損失を低減してエネルギーの利用効率を良くする。【解決手段】 両シリコン基板11、12は互いに接着されている。主シリコン基板11の一面に形成された蛇行した微小な流路13内には反応触媒層15が設けられ、主ガラス基板17で覆われている。燃焼用シリコン基板12の他面に形成された蛇行した微小な流路14内には燃焼触媒層15が設けられ、燃焼用ガラス基板18で覆われている。燃焼用ガラス基板18の外面には薄膜ヒータ23が設けられている。そして、流路14内に供給された燃焼用ガスを燃焼触媒層15上で燃焼反応により燃焼させ、この燃焼により発生した熱エネルギーと、薄膜ヒータ23の発熱による熱エネルギーとで流路13内を加熱する。また、流路14を覆っている燃焼用ガラス基板18により、流路14内で燃焼反応により発生した熱エネルギーの拡散を抑制することができる。
請求項（抜粋）：
第1基板と、該第1基板の一面および他面にそれぞれ接合された第2基板および第3基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた微小な第1流路と、前記第1基板と前記第3基板との間に設けられた微小な第2流路と、該第2流路内の少なくとも一部に設けられた燃焼触媒層と、前記第2基板と前記第3基板とのうちの少なくとも一方の外面に設けられた薄膜ヒータとを備え、前記第1流路に第1の流体が供給され、前記第2の流路に燃焼用流体が供給され、前記第2流路内に供給された前記燃焼用流体を前記燃焼触媒層上で燃焼反応により燃焼させ、この燃焼により発生した熱エネルギーと、前記薄膜ヒータの発熱による熱エネルギーとで前記第1流路内を加熱することを特徴とする化学反応装置。
IPC (4件)：
B01J 19/24 ,  C01B 3/32 ,  C01B 3/38 ,  H01M 8/06
FI (4件)：
B01J 19/24 A ,  C01B 3/32 A ,  C01B 3/38 ,  H01M 8/06 R
Fターム (25件)：
4G075AA03 ,  4G075BA01 ,  4G075BA06 ,  4G075BD14 ,  4G075CA02 ,  4G075CA13 ,  4G075CA54 ,  4G075CA66 ,  4G075EA07 ,  4G075EB22 ,  4G075EC21 ,  4G075EE05 ,  4G075EE12 ,  4G075FA12 ,  4G075FC07 ,  4G140EA02 ,  4G140EA06 ,  4G140EB11 ,  4G140EB32 ,  4G140EB35 ,  4G140EB48 ,  5H027AA02 ,  5H027BA01 ,  5H027BA16 ,  5H027BA17
引用特許：
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (11件)
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