特許

J-GLOBAL ID：200903097366408583

ポジ型レジスト組成物およびそれに用いる酸解離性基含有モノマー

発明者： 羽田 英夫 ,  岩井 武 ,  藤村 悟史 ,  片島 美和
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-343432
公開番号（公開出願番号）：特開2000-235263
出願日： 1999年12月02日
公開日（公表日）： 2000年08月29日
要約：

【要約】【課題】 感度、解像性、電子線耐性および断面形状に優れるパターンを安価に形成するArF用ポジ型レジスト組成物および酸解離性基含有モノマーの提供。【解決手段】 (A)下記単位の重合体および(B)酸発生剤を含む組成物。【化1】

請求項（抜粋）：

(A)少なくとも次の一般式(I)で表される単位を含む重合体および(B)放射線の照射により酸を発生する化合物を含有してなるポジ型レジスト組成物。【化1】(式中Rは水素原子または低級アルキル基を示し、R1は炭素数2以上のアルキル基を示し、nは0または1である)

IPC (7件)：

G03F 7/039 601 ,  C07C 69/753 ,  C08F222/06 ,  C08F232/00 ,  C08L 35/00 ,  C08L 45/00 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 7/039 601 ,  C07C 69/753 C ,  C08F222/06 ,  C08F232/00 ,  C08L 35/00 ,  C08L 45/00 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 新規なエステル化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパタ-ン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-128044   出願人：信越化学工業株式会社
• レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-320105   出願人：富士通株式会社
• レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-302909   出願人：信越化学工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-098796   出願人：東京応化工業株式会社