アライメント機構を備えた真空成膜装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：加藤雅夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-256231
公開番号（公開出願番号）：特開2004-095419
出願日： 2002年08月30日
公開日（公表日）： 2004年03月25日
要約：

【課題】基板とマスクとの相対位置を微調整するアライメント機構を真空仕様にして真空チャンバ内に配置することにより、嵩張らず、部品点数が少なく、且つ正確な微調整を行うアライメント機構を備えた真空成膜装置を提供する。【解決手段】真空チャンバ2の内部3には、基板BとマスクMとの相対位置を微調整するアライメント機構5が配置されている。アライメント機構5は、マスクMを保持する基準ステージ20に対して基板Bを保持する可動ステージ21を互いに平行な平面内で軸方向と回転との位置合わせするために、複数組の駆動モータと運動変換機構とを持つ。マスクMは基準ステージ20に対して別の駆動モータと運動変換機構を介して保持され、基板Bとの相対接近・離反を微調整する。アライメント機構5は真空仕様に構成され、真空チャンバ2内を汚染しない。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

内部が真空化可能であると共に成膜原料を加熱蒸発させる蒸発源を前記内部に備え、前記成膜原料の蒸発ガスが蒸着される基板と、前記基板に密着状態に接離可能であり且つ前記基板への蒸着のために前記蒸発ガスが通過可能な開口部が形成されているマスクとが前記内部に配置される真空チャンバ、及び前記基板と前記マスクとを両者の相対位置を微調整可能に保持するため駆動源を含むアライメント機構を備えた真空成膜装置において、前記アライメント機構を真空仕様に構成し、前記アライメント機構の全体を前記真空チャンバ内に配置したことから成るアライメント機構を備えた真空成膜装置。

IPC (3件)：

H05B33/10 , C23C14/04 , H05B33/14

FI (3件)：

H05B33/10 , C23C14/04 A , H05B33/14 A

Fターム (5件)：

3K007AB18 , 3K007DB03 , 3K007FA01 , 4K029BD00 , 4K029HA04

引用特許：

審査官引用 (4件)

成膜装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-227561 出願人：日新電機株式会社
有機光学的素子及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-291807 出願人：ソニー株式会社
位置合わせ装置、及びその装置を用いた有機蒸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-042634 出願人：株式会社アルバック

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