特許
J-GLOBAL ID:200903097594619683
擬ポリロタキサンおよびポリロタキサンならびにそれらの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
,
代理人 (2件):
早川 裕司
, 太田 昌孝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-021401
公開番号(公開出願番号):特開2008-184583
出願日: 2007年01月31日
公開日(公表日): 2008年08月14日
要約:
【課題】反応性基数を制御することのできる擬ポリロタキサンおよびポリロタキサンの製造方法、ならびに反応性基数が制御された擬ポリロタキサンおよびポリロタキサンを提供する。【解決手段】反応性基または保護基の数が異なる2種以上のシクロデキストリン、例えば、モノヒドロキシメチル化シクロデキストリン、ジヒドロキシメチル化シクロデキストリンまたはトリヒドロキシメチル化シクロデキストリンと、パーメチル化シクロデキストリンとを、所望の比で混合して軸分子に貫通させ、軸分子末端を封鎖することにより、反応性基数が制御されたポリロタキサンを製造する。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
シクロデキストリンを輪成分とした擬ポリロタキサンの製造方法であって、
反応性基または保護基の数が異なる2種以上のシクロデキストリンを、所望の比で混合して軸分子に貫通させることを特徴とする擬ポリロタキサンの製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (10件):
4C090AA05
, 4C090BA11
, 4C090BB84
, 4C090BB92
, 4C090BD31
, 4C090CA37
, 4C090DA03
, 4J005AA08
, 4J005BC00
, 4J005BD05
引用特許:
出願人引用 (2件)
審査官引用 (5件)
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引用文献:
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