特許
J-GLOBAL ID：200903097597283120

マイクロナノバブル浴槽水作製方法およびマイクロナノバブル浴槽

発明者：
山嵜 和幸

山嵜 和幸 について

, 
坂田 和之

坂田 和之 について

, 
中條 数美

中條 数美 について

, 
片岡 正紀

片岡 正紀 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (2件)： 山崎 宏 ,  前田 厚司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-264171
公開番号（公開出願番号）：特開2008-079895
出願日： 2006年09月28日
公開日（公表日）： 2008年04月10日
要約：
【課題】サイズが多種であると共に多量のマイクロナノバブルを経済的に作製できるマイクロナノバブル浴槽水作製方法およびマイクロナノバブル浴槽を提供する。【解決手段】このマイクロナノバブル浴槽1によれば、マイクロナノバブル発生部34の上部と下部において、第1,第2の2種類のマイクロナノバブル発生機(水中ポンプ型マイクロナノバブル発生機2,旋回流型マイクロナノバブル発生機10)によって、サイズ分布の異なる2種類のマイクロナノバブルを発生するので、幅広いサイズ分布のマイクロナノバブルを含有した浴槽水を多量に作製できる。また、下部で発生したマイクロナノバブル含有水の一部を上部の第1のマイクロナノバブル発生機(旋回流型マイクロナノバブル発生機10)へ流入させることで、旋回流型マイクロナノバブル発生機10ではよりサイズの小さいマイクロナノバブルを発生できる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
マイクロナノバブル発生部の上部で、上記マイクロナノバブル発生部の下部で発生させるマイクロナノバブルのサイズよりも小さいサイズのマイクロナノバブルを発生させて、マイクロナノバブルのサイズ分布の異なる2種類のマイクロナノバブルを発生させ、 上記マイクロナノバブル発生部の下部から上部に浴槽水を流し、 上記マイクロナノバブル発生部から浴槽部に上記マイクロナノバブル含有浴槽水を導入することを特徴とするマイクロナノバブル浴槽水作製方法。
IPC (5件)：
A61H 33/02 ,  B01F 3/04 ,  C02F 1/28 ,  A47K 3/00 ,  A61H 23/00
FI (5件)：
A61H33/02 D ,  B01F3/04 A ,  C02F1/28 F ,  A47K3/00 F ,  A61H23/00 510
Fターム (42件)：
4C074LL01 ,  4C074LL07 ,  4C074MM04 ,  4C074NN01 ,  4C074NN04 ,  4C074NN08 ,  4C074QQ23 ,  4C074QQ36 ,  4C094AA01 ,  4C094BB14 ,  4C094BB15 ,  4C094BB16 ,  4C094BC11 ,  4C094BC18 ,  4C094BC21 ,  4C094DD06 ,  4C094DD14 ,  4C094DD15 ,  4C094EE08 ,  4C094EE11 ,  4C094EE20 ,  4C094EE22 ,  4C094EE24 ,  4C094FF05 ,  4C094GG05 ,  4D024AA06 ,  4D024BA17 ,  4D024BB02 ,  4D024BB05 ,  4D024BC01 ,  4D024DB01 ,  4D624AA06 ,  4D624BA17 ,  4D624BB02 ,  4D624BB05 ,  4D624BC01 ,  4D624DB01 ,  4G035AB05 ,  4G035AB10 ,  4G035AB15 ,  4G035AB44 ,  4G035AE19
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • ナノバブルの利用方法及び装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-288963   出願人：独立行政法人産業技術総合研究所
  • ナノ気泡の生成方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-145325   出願人：独立行政法人産業技術総合研究所
  • 廃液の処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-121082   出願人：日立エンジニアリング株式会社
審査官引用 (13件)
  • 気泡発生装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-058862   出願人：株式会社エムディケー
  • 気泡噴出浴槽用低動力・低騒音気泡発生装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-066382   出願人：高木工業株式会社
  • ナノ気泡の生成方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-145325   出願人：独立行政法人産業技術総合研究所
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