特許
J-GLOBAL ID:200903097813571152

スラリ再生方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 野河 信太郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-151208
公開番号(公開出願番号):特開2003-340719
出願日: 2002年05月24日
公開日(公表日): 2003年12月02日
要約:
【要約】【課題】 分散媒の回収率を向上させることを課題とする。【解決手段】 砥粒とそれを分散する分散媒とからなるスラリの存在下でシリコンインゴットをスライスして生じたシリコン切屑を更に含む使用済みスラリを、砥粒を主として含む分散液とシリコン切屑を主として含む分散液に分離する工程と、シリコン切屑を主として含む分散液を(1)5000G以上の遠心力により遠心分離する、(2)低Gの遠心力により遠心分離した後、それより高Gの遠心力により遠心分離する、(3)遠心分離し、蒸留する又は(4)蒸留することで分散媒を回収する工程と、砥粒、または、砥粒を主として含む分散液と回収した分散媒を利用してスラリを再生する工程とを含むことを特徴とするスラリ再生方法により上記課題を解決する。
請求項(抜粋):
砥粒とそれを分散する分散媒とからなるスラリの存在下でシリコンインゴットをスライスして生じたシリコン切屑を更に含む使用済みスラリを、砥粒を主として含む分散液とシリコン切屑を主として含む分散液に分離する工程と、シリコン切屑を主として含む分散液を(1)5000G以上の遠心力により遠心分離する方法、(2)低Gの遠心力により遠心分離した後、それより高Gの遠心力により遠心分離する方法、(3)遠心分離し、蒸留する方法、(4)蒸留する方法から選択されるいずれか1つの方法で分散媒を回収する工程と、砥粒、または、砥粒を主として含む分散液と回収した分散媒を利用してスラリを再生する工程とを含むことを特徴とするスラリ再生方法。
IPC (5件):
B24B 57/02 ,  B01D 3/00 ,  C02F 11/00 ,  C02F 11/12 ,  B28D 5/04
FI (5件):
B24B 57/02 ,  B01D 3/00 A ,  C02F 11/00 B ,  C02F 11/12 C ,  B28D 5/04 C
Fターム (28件):
3C047FF06 ,  3C047GG14 ,  3C047GG17 ,  3C069AA01 ,  3C069BA06 ,  3C069CA03 ,  3C069CA04 ,  3C069DA06 ,  4D059AA30 ,  4D059BE31 ,  4D059BE38 ,  4D059BE46 ,  4D059BE49 ,  4D059BJ00 ,  4D059BK30 ,  4D059EB20 ,  4D076AA02 ,  4D076AA12 ,  4D076AA14 ,  4D076AA22 ,  4D076AA24 ,  4D076DA01 ,  4D076EA12Y ,  4D076FA02 ,  4D076FA20 ,  4D076HA03 ,  4D076HA12 ,  4D076JA03
引用特許:
審査官引用 (5件)
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