ポリフェノール化合物、キノンジアジドエステル化物及びポジ型ホトレジスト組成物

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：曾我道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-212103
公開番号（公開出願番号）：特開平11-052565
出願日： 1997年08月06日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：

【要約】【課題】高解像性、高感度で、かつ露光余裕度が広いポジ型ホトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】ビス(2,5-ジメチル-3-(2-ヒドロキシ-5-エチルベンジル)-4-ヒドロキシフェニル)メタンおよびそのキノンジアジドエステル化物。これらをポジ型ホトレジスト組成物に用いる。

請求項（抜粋）：

下記式(I)【化1】で表されるポリフェノール化合物。

IPC (4件)：

G03F 7/022 601 , C07C 39/15 , C07C309/71 , C07C309/74

FI (4件)：

G03F 7/022 601 , C07C 39/15 , C07C309/71 , C07C309/74

引用特許：

審査官引用 (5件)

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