特許
J-GLOBAL ID：200903097967922543
イオン源および質量分析装置および質量分析方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-134841
公開番号（公開出願番号）：特開2003-331776
出願日： 2002年05月10日
公開日（公表日）： 2003年11月21日
要約：
【要約】【課題】 低流量の液体のイオン化に好適な噴霧イオン化インターフェース,高感度な質量分析装置を提供する【解決手段】 イオン源は,一方の末端側で外径及び内径が一方の末端に向かって小さく形成され,他方の末端から液体試料が導入されるキャピラリー1と,上記一方の末端側の外周に沿ってガスを流し,上記一方の末端から液体試料を噴霧するガスガイド管6と,ガスガイド管にガスを導入するガス導入部5とを具備する。上記一方の末端側が挿入される側で,ガスガイド管の内径が上記一方の末端に向かって小さく形成されている。生成された気体状イオンはイオン取りこみ口7より真空部9へ導入され質量分析計で質量分離される。キャピラリー1の上記一方の先端側の近傍は保持部材3によりガスガイド管2の内部に,キャピラリー1はプラグ4によりイオン源ハウジングに,それぞれ固定される。帯電粒子は吸引ポート8より外部に排除される。【効果】 帯電粒子の真空装置への導入を防止できる。
請求項（抜粋）：
一方の末端側で外径及び内径が前記一方の末端に向かって小さく形成され,他方の末端から液体試料が導入されるキャピラリーと,前記キャピラリーの一方の末端側が挿入されるガスガイド管であり,前記キャピラリーの一方の末端側の外周に沿ってガスを流し,前記キャピラリーの一方の末端から前記液体試料を噴霧するガスガイド管と,前記ガスガイド管にガスを導入するガス導入部とを有し,前記キャピラリーの一方の末端側が挿入される側で,前記ガスガイド管の内径が前記キャピラリーの一方の末端に向かって小さく形成されていることを特徴とするイオン源。
IPC (3件)：
H01J 49/04
, G01N 27/62
, H01J 49/10
H01J 49/04
, G01N 27/62 F
, G01N 27/62 G
, H01J 49/10
5C038EE02
, 5C038EF04
, 5C038GG08
, 5C038GH05
, 5C038GH08
, 5C038GH09
, 5C038GH11
, 5C038GH13
, 5C038GH15
