イオン注入装置およびイオン注入量管理方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：丸山隆夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-281563
公開番号（公開出願番号）：特開2001-101991
出願日： 1999年10月01日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
要約：

【要約】【課題】イオン注入量を正確に制御することが可能なイオン注入装置およびイオン注入量管理方法を得る。【解決手段】イオンビーム1がプラテン2上のウエハ3に照射される前に、最適なイオンビーム電流値を直流電流発生器6により発生した電流値(積算値)のみを、イオンビーム電流計測部4で計測する。イオン注入量制御部5は、このイオンビーム電流計測部4を通して計測された電流値とこの時の条件に最適な理論値の条件イオンビーム電流値とを比較し、これらの差分により補正係数を算出する。イオン注入処理開始時に、切り替えユニット7が動作し、イオンビーム電流計測部4は直流電流発生器6と接続を遮断し、プラテン2と接続され、イオン注入処理が開始される。この時、イオン注入量制御部5は、補正係数を基にイオン注入量の補正を行いイオン注入量の実行を制御する。イオンビーム電流計測部4それ自体の測定誤差が補正される。

請求項（抜粋）：

イオンビーム電流をイオンビーム電流計測部で測定し、該測定結果に基づいて予め設定されている設定イオン注入量になるようにイオン注入量の制御が行われるイオン注入装置において、前記設定イオン注入量に対応する基準値となる直流電流を発生する直流電流発生器と、前記直流電流発生器で発生した直流電流値を前記イオンビーム電流計測部が測定し、該測定した直流電流値に基づき前記イオン注入量の実行の制御を行うイオン注入量制御部と、を有して構成されたことを特徴とするイオン注入装置。

IPC (2件)：

H01J 37/317 , H01L 21/265

FI (2件)：

H01J 37/317 C , H01L 21/265 T

Fターム (3件)：

5C034CC07 , 5C034CC10 , 5C034CD07

引用特許：

審査官引用 (6件)

イオン注入方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-321455 出願人：テル・バリアン株式会社
イオン注入制御装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-239317 出願人：日新電機株式会社
イオン注入量計測装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-026777 出願人：テル・バリアン株式会社

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