特許
J-GLOBAL ID：200903098097193059
圧電体装置及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
林 敬之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-237349
公開番号（公開出願番号）：特開2000-200930
出願日： 1999年08月24日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
要約：
【要約】【課題】 圧電体装置の構成において、接着剤による振動特性の劣化、バラツキを抑え、特性を向上させること、ならびに、製造工程を簡略化することを課題とする。【解決手段】 基板上に圧電体層とおよそ同一主成分であり、同じ結晶構造を有する超微粒子層を形成し、その超微粒子層上に圧電体層を形成した構造を備えた圧電体装置を実現する。
請求項（抜粋）：
基板上に圧電体層が設けられた圧電体装置において、前記基板と前記圧電体層の間に超微粒子層が形成されるとともに、前記超微粒子層が前記圧電体層の主成分とおよそ同一の主成分であることを特徴とする圧電体装置。
IPC (4件)：
H01L 41/09
, H01L 41/187
, H01L 41/22
, H02N 2/00
H01L 41/08 C
, H02N 2/00 C
, H01L 41/18 101 D
, H01L 41/22 Z
