特許
J-GLOBAL ID:200903098158671196

塗布装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 志賀 正武 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-201251
公開番号(公開出願番号):特開2003-010766
出願日: 2001年07月02日
公開日(公表日): 2003年01月14日
要約:
【要約】【課題】 均一な薄い塗布膜を高速で、しかも、長期間に亙って塗布することのできる塗布装置を提供する。【解決手段】 コバルトを4〜20重量%と、クロムを0.3〜3.0重量%および/またはバナジウムを0.1〜3.0重量%と、残部が平均粒径が1μm以下とされた炭化タングステンと不可避不純物とからなる超硬合金から第2ドクターエッジ先端18及びスムーザーエッジ31を形成した。そして、第2ドクターエッジ先端18の先端側の先端面18aと走行方向Aに沿った下流側の背面18bの交差領域の角部18c、及び、スムーザー30の先端側に設けられたスムーザーエッジ31の先端側のスムーザー先端面31aと走行方向Aに沿った下流側のスムーザー背面31bの交差領域の角部31cに、0.01mm以下の面取りあるいは丸みを形成した。
請求項(抜粋):
一の方向に走行する可撓性帯状支持体の上に塗布液を塗布する塗布ヘッドを備え、前記塗布ヘッドは、前記可撓性帯状支持体の走行方向に順次配置された少なくとも二つのエッジを有し、互いに隣り合うエッジの間には、前記塗布液が前記可撓性帯状支持体に向かって流通するスロットが各々形成されるとともに、前記塗布ヘッドの先端で開口された流出口から前記塗布液がそれぞれ流出して前記可撓性帯状支持体に塗布されるよう構成された塗布装置であって、前記走行方向に沿って最後に配置される最終エッジの前記可撓性帯状支持体を臨む側に先端面が形成されるとともに、前記最終エッジの前記走行方向に沿った下流側に背面が形成され、前記先端面と前記背面の交差領域の角部には、0.01mm以下の面取りあるいは丸みが形成されていることを特徴とする塗布装置。
IPC (2件):
B05C 5/02 ,  G11B 5/842
FI (2件):
B05C 5/02 ,  G11B 5/842 Z
Fターム (10件):
4F041AA12 ,  4F041AB01 ,  4F041BA05 ,  4F041BA12 ,  4F041BA13 ,  4F041BA14 ,  4F041BA17 ,  4F041CA02 ,  4F041CA12 ,  5D112CC08
引用特許:
審査官引用 (8件)
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