特許
J-GLOBAL ID：200903098239511258
圧電体薄膜素子、これを用いたアクチュエータ、インクジェット式記録ヘッド、並びに圧電体薄膜素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-099452
公開番号（公開出願番号）：特開平10-290033
出願日： 1997年04月16日
公開日（公表日）： 1998年10月27日
要約：
【要約】【課題】 圧電体薄膜素子を形成する過程において、圧電体薄膜中の酸素濃度の低下を防ぐことにより、圧電体特性に優れた圧電体薄膜の製造方法を提供する。【解決手段】 多結晶体からなる圧電体膜15を挟んで上電極16と下電極14とを形成し、この下電極上に前記圧電体を形成後熱処理する圧電体薄膜の製造方法であって、前記下電極形成後圧電体薄膜形成前に酸素雰囲気下で熱処理する。
請求項（抜粋）：
圧電体膜を挟んで上電極と下電極とを形成するものであって、この下電極上に前記圧電体を形成後熱処理する圧電体薄膜の製造方法において、前記下電極形成後圧電体薄膜形成前に酸素雰囲気下で熱処理することを特徴とする圧電体薄膜の製造方法。
IPC (5件)：
H01L 41/09
, H01L 41/22
, B41J 2/045
, B41J 2/055
, B41J 2/16
H01L 41/08 C
, H01L 41/22 Z
, B41J 3/04 103 A
, B41J 3/04 103 H
