マスフローコントローラ

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大場充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-062268
公開番号（公開出願番号）：特開平9-250649
出願日： 1996年03月19日
公開日（公表日）： 1997年09月22日
要約：

【要約】【課題】パージなど積算機能が不必要とされる時期を自己認識できるマスフローコントローラにより、半導体製造に使用されるプロセスガスの使用量を管理し、プロセスガス用ボンベ交換を容易にする。【解決手段】流体通路を流れる流体の質量流量を検出する質量流量検出センサ部と、前記流体の流量を制御する流体制御弁と、この流体制御弁を駆動する駆動部と、前記センサ部からの信号を処理すると共に前記駆動部の動作を制御する流量制御部とを有し、前記質量流量を積算する積算機能を備えたマスフローコントローラであって、前記積算機能は、マスフローコントローラの全開操作信号および全閉操作信号を前記流量制御部で判断し、積算を自動的に停止できるものとした。

請求項（抜粋）：

流体通路を流れる流体の質量流量を検出する質量流量検出センサ部と、前記流体の流量を制御する流体制御弁と、この流体制御弁を駆動する駆動部と、前記センサ部からの信号を処理すると共に前記駆動部の動作を制御する流量制御部とを有し、前記質量流量を積算する積算機能を備えたマスフローコントローラであって、前記積算機能は、マスフローコントローラの全開操作信号および全閉操作信号を前記流量制御部で判断し、積算を自動的に停止することを特徴とするマスフローコントローラ。

IPC (7件)：

F16K 21/16 , F16K 31/126 , F16L 55/00 , F17C 13/02 , F17C 13/04 , F17D 3/00 , G05D 7/06

FI (7件)：

F16K 21/16 A , F16K 31/126 E , F17C 13/02 , F17C 13/04 , F17D 3/00 , G05D 7/06 Z , F16L 55/00 M

引用特許：

審査官引用 (12件)

気相成長装置の有機金属化合物ガス供給装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-303154 出願人：富士電機株式会社
ガス流量制御装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-213959 出願人：ソニー株式会社
水素充填方法,及び水素充填装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-212916 出願人：三洋電機株式会社

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