フォトニック結晶およびその中に制御された欠陥を製造する方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：青木篤 , 石田敬 , 古賀哲次 , 永坂友康
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-513135
公開番号（公開出願番号）：特表2007-525685
出願日： 2003年12月05日
公開日（公表日）： 2007年09月06日
要約：

本方法は、(a)(1)少なくとも1種類のカチオン反応性種と、(2)多光子光開始剤系と、(3)複数の予備縮合した無機のナノ微粒子とを含む実質的に無機の光反応性組成物を提供する工程と、(b)少なくとも3本のビームを含むマルチビーム干渉技術を用いて、光反応性組成物の少なくとも一部に適切な波長、空間分布および強度の放射線を露光して、光反応性組成物の反応済みおよび未反応部分の二次元または三次元の周期パターンを生成する工程と、(c)光反応性組成物の未反応部分の少なくとも一部に適切な波長および強度の放射線を露光して、多光子吸収および光反応を生じさせて、追加の反応済み部分を形成する工程と、(d)光反応性組成物の未反応部分または反応済み部分を除去して間隙ボイドスペースを形成する工程と、(e)間隙ボイドスペースを、残りの部分の屈折率とは異なる屈折率を有する少なくとも1種類の材料で少なくとも部分的に充填する工程とを含む。

請求項（抜粋）：

(a)(1)少なくとも1種類のカチオン反応性種と、 (2)多光子光開始剤系と、 (3)複数の予備縮合した無機のナノ微粒子とを含む実質的に無機の光反応性組成物を提供する工程と、 (b)少なくとも3本のビームを含むマルチビーム干渉技術を用いて、前記光反応性組成物の少なくとも一部に適切な波長、空間分布および強度の放射線を露光して、前記光反応性組成物の反応済みおよび未反応部分の二次元または三次元の周期パターンを生成する工程と、 (c)前記光反応性組成物の前記未反応部分の少なくとも一部に適切な波長および強度の放射線を露光して、多光子吸収および光反応を生じさせて、追加の反応済み部分および残りの未反応部分を形成する工程と、 (d)前記光反応性組成物の前記残りの未反応部分または全反応済み部分を除去して間隙ボイドスペースを形成する工程と、 (e)前記間隙ボイドスペースを、前記光反応性組成物の前記残りの未反応部分または反応済み部分の屈折率とは異なる屈折率を有する少なくとも1種類の材料で少なくとも部分的に充填する工程とを含む方法。

IPC (2件)：

G02B 1/02 , G02B 6/13

FI (2件)：

G02B1/02 , G02B6/12 M

Fターム (10件)：

2H147BF03 , 2H147BF04 , 2H147BF05 , 2H147BF12 , 2H147EA16A , 2H147EA16B , 2H147EA16C , 2H147EA20A , 2H147EA20B , 2H147EA20C

引用特許：

審査官引用 (5件)

レーザー干渉によるフォトニック結晶構造の作成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-141438 出願人：科学技術振興事業団
周期性を示す材料を含む物品を製造する方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-142466 出願人：ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド
光学膜被覆物品
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-062040 出願人：日本板硝子株式会社, 南努

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