特許
J-GLOBAL ID：200903098432179546

基板回転乾燥装置

発明者：
荒木 浩之

荒木 浩之 について

, 
八木 章雄

八木 章雄 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-196851
公開番号（公開出願番号）：特開2001-023945
出願日： 1999年07月12日
公開日（公表日）： 2001年01月26日
要約：
【要約】【課題】 基板に付着するパーティクルを少くして清浄度高く、基板を乾燥することができ、回転乾燥に要する時間を短くしたる基板回転乾燥装置を提供すること。【手段】 槽排気ダンパー52を開いてから所定時間Tbが経過してから(ステップS10)、回転を始めることにより、チャンバ排気口24を経て槽排気ダクト28よりチャンバ15外へ排気される気流を、先にチャンバ15内の基板の周囲に形成しておいてから、基板を回転させることとなり、回転の初期の段階に最も多く集中的に発生する基板に付着していた液滴やパーティクルが基板から振り切られて生ずるチャンバミスト状の浮遊物は、気流に乗って回転当初より速やかに確実にチャンバ15外へ排出される。回転初期段階に基板から振り切られた液がチャンバ15の内壁面を濡らすことがなく、回転乾燥に要する時間を短くできる。
請求項（抜粋）：
基板を保持して回転する基板回転保持手段と、前記基板回転保持手段を囲むチャンバと、前記チャンバ内を排気するチャンバ排気部とを備え、前記チャンバが、基板を出し入れする開閉可能な基板出入口と、基板出入口を閉じた状態でも内部と外部が連通して外気を吸い込む吸気口とを有する基板回転乾燥装置であって、チャンバ排気部による排気を開始させてから所定時間経過後に、前記基板回転保持手段の回転を開始するようにしたことを特徴とする基板回転乾燥装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304 648 ,  F26B 5/08
FI (3件)：
H01L 21/304 651 A ,  H01L 21/304 648 L ,  F26B 5/08
Fターム (10件)：
3L113AA06 ,  3L113AB02 ,  3L113AB08 ,  3L113AC28 ,  3L113AC68 ,  3L113BA34 ,  3L113CA15 ,  3L113CB23 ,  3L113CB35 ,  3L113DA10
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 基板回転乾燥装置の排気装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-161398   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 回転式基板乾燥装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-354897   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 回転式基板乾燥装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-312944   出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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