高周波電力をプラズマ処理チャンバに送給するプラズマ処理システム、装置、及び方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-506572
公開番号（公開出願番号）：特表2003-517722
出願日： 2000年06月15日
公開日（公表日）： 2003年05月27日
要約：

【要約】本発明は高周波電力をプラズマ処理チャンバに提供するプラズマ処理装置、システム、及び方法を提供する。このプラズマ処理システム(300)は、高周波発生器(310)と、プラズマチャンバ(310)と、マッチネットワークボックス(308)と、第一のケーブル(314)と、第二のケーブル(316)と、マッチネットワークボックスを電気的に分離する手段(312)とを含む。この高周波発生器は、プラズマチャンバに伝送する高周波電力を生成する。このプラズマチャンバは、ウェハ(302)を処理するために高周波電力を受領し、プラズマ処理中の内部インピーダンスにより特徴付けられる。このプラズマチャンバは高周波電流を戻す一つ以上の壁(344)を有する。このマッチネットワークボックスは高周波電流を受領することが可能であり、プラズマチャンバの内部インピーダンスを高周波電源のインピーダンスに一致させるインピーダンスを生成する。この第一のケーブルは、高周波電源とマッチネットワークボックスとの間で高周波電力を伝送するために、高周波電源とマッチネットワークボックスとの間に結合させる。この第二のケーブルは、マッチネットワークとプラズマチャンバとの間で高周波電力を伝送するために、マッチネットワークボックスとプラズマチャンバとの間に結合させる。この第二のケーブルは、プラズマチャンバからマッチネットワークボックスへの高周波リターン電流のリターン経路を提供する。この電気的に分離する手段は、第二のケーブルのみがプラズマチャンバからマッチネットワークボックスへの高周波リターン電流のリターン経路を提供するように、マッチネットワークボックスをプラズマチャンバとの電気的接触から電気的に分離する。

請求項（抜粋）：

ウェハを処理するために高周波電力をプラズマ処理チャンバに送給するプラズマ処理システムであって、高周波電力を発生する高周波発生器と、ウェハを処理するための高周波電力を入力するように構成され、プラズマ処理中の内部インピーダンスにより特徴付けられると共に、高周波電流を戻す一つ以上の壁を有するプラズマチャンバと、前記プラズマチャンバの内部インピーダンスを前記高周波発生器のインピーダンスに一致させるインピーダンスを生成し、前記高周波電流を入力可能なマッチネットワークボックスと、前記高周波発生器と前記マッチネットワークボックスとの間で高周波電力を伝送させるために高周波電源とマッチネットワークボックスとの間に結合される第一のケーブルと、前記マッチネットワークと前記プラズマチャンバとの間で高周波電力を伝送させるためにマッチネットワークボックスとプラズマチャンバとの間に結合され、前記プラズマチャンバから前記マッチネットワークボックスへの前記高周波リターン電流のリターン経路を提供する第二のケーブルと、前記第二のケーブルのみが前記プラズマチャンバから前記マッチネットワークボックスへの前記高周波リターン電流の前記リターン経路を提供するように、前記マッチネットワークボックスを前記プラズマチャンバとの電気的接触から電気的に分離させる手段とを備えるプラズマ処理システム。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 , H01J 37/32 , H01L 21/205

FI (3件)：

H01J 37/32 , H01L 21/205 , H01L 21/302 C

Fターム (11件)：

5F004AA01 , 5F004BA04 , 5F004BB11 , 5F004BB20 , 5F004BC08 , 5F045AA08 , 5F045AA10 , 5F045BB01 , 5F045DQ10 , 5F045EH14 , 5F045EH17

引用特許：

審査官引用 (4件)

プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-160077 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-218189 出願人：三菱電機株式会社
特開平4-343222

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