特許
J-GLOBAL ID：200903098456874300
フォトマスク及びフォトマスクの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-156675
公開番号（公開出願番号）：特開平10-003162
出願日： 1996年06月18日
公開日（公表日）： 1998年01月06日
要約：
【要約】【課題】 良好な微細パターンの形成が可能であり且つ耐久性の向上したフォトマスク、及び、透過率および位相差の制御性が向上した該フォトマスクの製造方法を提供する。【解決手段】 ガラス基板上に、エキシマ露光光源からの発振光に対して半透明な単層あるいは多層構造の位相シフト膜を有するフォトマスクであって、該位相シフト膜の表面に、露光中に発生するオゾンに対して化学的に安定な保護膜を有するフォトマスク。
請求項（抜粋）：
透明基板上に、エキシマ露光光源からの発振光に対して半透明な単層あるいは多層構造の位相シフト膜を有するフォトマスクであって、少なくとも該位相シフト膜の表面に、露光中に発生するオゾンに対して化学的に安定な保護膜を有することを特徴とするフォトマスク。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G03F 1/14
, H01L 21/027
G03F 1/08 A
, G03F 1/14 E
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
