特許
J-GLOBAL ID：200903098825725402
スパッタ方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石原 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-195210
公開番号（公開出願番号）：特開2001-020067
出願日： 1999年07月09日
公開日（公表日）： 2001年01月23日
要約：
【要約】【課題】 矩形平板ターゲットを有するロータリー式のスパッタ方法及び装置において、基板面内での膜厚均一性を向上する。【解決手段】 円盤状の基板ホルダ18上に複数個の基板20を設置し、基板ホルダ18を中心軸まわりに自転させて基板20を公転運動させ、矩形平板ターゲット1とその近傍に配置した磁気回路5を備えたスパッタ電極10の矩形放電ターゲット1の前面を通過させるスパッタ方法において、磁気回路5を構成する長手方向磁石21の位置又は強さを可変し、矩形平板ターゲット1のスパッタ領域の形状と深さの一方又は両方を矩形平板ターゲット1の長手方向に沿って変化させるように構成し、基板20の内外周での膜厚差を無くすようにした。
請求項（抜粋）：
円盤状の基板ホルダ上に複数個の基板を設置し、基板ホルダを中心軸まわりに自転させて基板を公転運動させ、矩形平板ターゲットとその近傍に配置した磁気回路とを備えたスパッタ電極の矩形平板ターゲットの前面を通過させるスパッタ方法において、磁気回路の磁石の位置と強さの一方又は両方を、基板ホルダの半径方向に沿う矩形平板ターゲットの長手方向に変化させ、矩形平板ターゲットのスパッタ領域の形状と深さの一方又は両方を矩形平板ターゲットの長手方向に沿って変化させることを特徴とするスパッタ方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/35 A
, H01L 21/203 S
4K029AA21
, 4K029CA05
, 4K029DA02
, 4K029DC16
, 4K029DC24
, 4K029DC43
, 4K029JA03
, 5F103AA08
, 5F103BB14
, 5F103BB22
, 5F103BB34
, 5F103BB36
, 5F103BB38
, 5F103DD30
, 5F103HH10
, 5F103RR04
, 5F103RR10
